パイロクロア型酸化物へのアニオンドープによる新規物性発現

通过烧绿石型氧化物的阴离子掺杂表现出新的物理性能

基本信息

  • 批准号:
    20J13190
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.34万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 财政年份:
    2020
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2020-04-24 至 2022-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究では、パイロクロア酸化物において、酸素量の調整や酸素位置への異種アニオンの導入を試み、新規物性の開拓を目的とした。本年度は、新規磁気秩序の発現を目指すため、Ho2Ti2O7薄膜をパルスレーザー堆積法によって作製した後、アニオン源と共に加熱することでアニオンドープを試みた。ヒドリド源としてはCaH2を、フッ素イオン源としてはポリフッ化ビニリデンを用いた。アニオン源と加熱したのち、結晶構造および化学組成の変化を観察したところ、どちらのアニオン源の場合も変化が見られなかった。これより、今回の実験条件では、Ho2Ti2O7薄膜にヒドリドおよびフッ素イオンのどちらもドープされないことが判明した。一方、申請者は上記の研究と並行して、ペロブスカイト型酸窒化物薄膜を作製し、その新規物性開拓も行った。酸窒化物薄膜の作製には、窒素プラズマ支援パルスレーザー堆積法を用いた。レーザー周波数や入力電力を調整した結果、窒素量の異なるEuNbO3-xNx薄膜の作製に成功した。低温でそれらの磁気輸送特性を測定した結果、磁気抵抗効果を窒素量によって劇的に制御できることを見出した。また、SrWO2N薄膜の作製にも成功し、酸窒化物としては珍しく、電極応用可能なレベルにまで低い電気抵抗率を持つことを示した。本研究により、ペロブスカイト型酸窒化物薄膜が電子材料として有望であることが明らかになった。
在这项研究中,我们试图调节氧气量,并将异源阴离子引入辉石氧化物中的氧气位置,并旨在发展新的物理特性。在今年,为了开发新的磁性顺序,我们试图通过脉冲激光沉积来涂抹HO2TI2O7薄膜,然后与阴离子源一起加热到阴离子涂料。 CAH2用作氢化物源,将聚偏二氟化物用作氟化物离子源。与阴离子源加热后,观察到晶体结构和化学成分的变化,并且任何一个阴离子源都没有观察到变化。这表明在当前的实验条件下,氢化物和氟离子均未掺杂到HO2TI2O7薄膜中。同时,与上述研究同时,申请人制造了钙钛矿型氧硝基薄膜,并开发了新的物理特性。氮等离子体辅助的脉冲激光沉积用于制造氧硝酸盐薄膜。由于调整激光频率和输入功率,我们成功地制造了具有不同氮含量的Eunbo3-XNX薄膜。它们的磁运输特性是在低温下测量的,发现磁阻的效应可以通过氮量显着控制。此外,它还成功地制造了SRWO2N薄膜,表明它具有低的电阻率,可以应用于电极,这对于氧气硝酸盐很少见。这项研究表明,钙钛矿型氧硝酸盐薄膜有望作为电子材料。

项目成果

期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Influence of fluorination on electronic states and electron transport properties of Sr2IrO4 thin films
  • DOI:
    10.1039/d0tc01734e
  • 发表时间:
    2020-06
  • 期刊:
  • 影响因子:
    6.4
  • 作者:
    T. Maruyama;A. Chikamatsu;T. Katayama;K. Kuramochi;H. Ogino;M. Kitamura;K. Horiba;H. Kumigashira;T. Hasegawa
  • 通讯作者:
    T. Maruyama;A. Chikamatsu;T. Katayama;K. Kuramochi;H. Ogino;M. Kitamura;K. Horiba;H. Kumigashira;T. Hasegawa
Ru3+を持つ新規層状酸フッ化物Ca2RuO2.5F2薄膜の作製
Ru3+制备新型层状氟氧化物Ca2RuO2.5F2薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    近松彰;福間翔太;片山司;丸山敬裕;柳澤圭一;木本浩司;北村未歩;堀場弘司;組頭広志;廣瀬靖;長谷川哲也
  • 通讯作者:
    長谷川哲也
Investigation of the electronic states of A-site layer-ordered double perovskite YBaCo2Ox (x = 5.3 and 6) thin films by x-ray spectroscopy
通过 X 射线光谱研究 A 位层有序双钙钛矿 YBaCo2Ox(x = 5.3 和 6)薄膜的电子态
  • DOI:
    10.1063/5.0031096
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4
  • 作者:
    Chikamatsu Akira;Katayama Tsukasa;Maruyama Takahiro;Kitamura Miho;Horiba Koji;Kumigashira Hiroshi;Wadati Hiroki;Hasegawa Tetsuya
  • 通讯作者:
    Hasegawa Tetsuya
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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{{ showInfoDetail.title }}

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