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Development of in-liquid plasma jet production method and synthesis of diamond semiconductor crystal
液体等离子射流生产方法的开发及金刚石半导体晶体的合成
基本信息
- 批准号：20K05170
- 负责人：
- 金额：$ 2.75万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2020
- 资助国家：日本
- 起止时间：2020-04-01 至 2023-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（3）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
A New Diamond Chemical Vapor Deposition Method on Steel Surface
钢表面金刚石化学气相沉积新方法
- DOI：10.3775/jie.101.147
- 发表时间：2022
- 期刊：
- 影响因子：0.2
- 作者：Ryoya Shiraishi;Hiromichi Toyota;Xia Zhu;Kengo Matsumoto;Shinfuku Nomura;Yukiharu Iwamoto
- 通讯作者：Yukiharu Iwamoto
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