耐熱性とプロセス温度の低温化を両立したSiCセラミックスのTLP接合技術の開発
耐熱性とプロセス温度の低温化を両立したSiCセラミックスのTLP接合技術の開発
批准号:
24K08069
负责人:
尾崎 友厚
金额:
$2.91万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2024
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2024-04-01 至 2028-03-31
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会议论文
Development of Diffusion-Bonding Technique for SiC CMC using the principle of TLP-Bonding
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批准号:20K05124
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.83万
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财政年份:2020
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负责人:尾崎 友厚
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依托单位:
Bi系機能性材料の創製と機能開拓
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批准号:10J08213
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2010
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负责人:尾崎 友厚
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依托单位: