マイクロ共晶体構造を応用した量子線弁別型超高解像度イメージング装置の開発
マイクロ共晶体構造を応用した量子線弁別型超高解像度イメージング装置の開発
批准号:
19H00672
负责人:
鎌田 圭
金额:
$28.2万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份:
2019
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2019-04-01 至 2024-03-31
中文摘要
昨年度までに有望と確認されたCsI/CsCl/NaCl 共晶体やBaCl2/NaCl/KClについて、大型化の検討を進めた。特に有望なBaCl2/NaCl/KClについて、発光中心となるTbやEuの濃度の最適化を進め、作製した共晶体インゴットからシンチレータプレートを試作した。、試作したシンチレータと光検出器を組合せたイメージング装置の試作を進め、spring-8において、平行度の 高いX線などのビームラインを活用した、イメージング試験を実施した。また、、高分解能放射線イメージング検出器を開発し、放射線の一種であるアルファ線の飛跡を短時間間隔のリアルタイム画像として可視化することに成功した。アルファ線は、物質中では数十マイクロメートル程度と極めて短い距離しか飛ばないことから、アルファ線の物質中の飛跡をリアルタイムで観察することは、これまで不可能と考えられていたが、今回の装置を利用して、シンチレータへのアルファ線の入射角度の違いによる形状の違いを利用して、アルファ線飛跡の三次元分布評価やアルファ線のエネルギーを評価できる可能性がある。一方で、自己組織化方の共晶体を利用した光導波型シンチレータでは、規則構造の線形性と規則性を確保した上で、大口径の高品質領域を得ることが困難であることが分かってきた。そこで、さらなる検討を進めた結果、バンドル光ファイバーと同様に、コアを低融点・高屈折率のハロゲン化物シンチレータとし、クラッドをガラスとすることで、光導波型シンチレータを製造する技術の開発に成功した。これは、光ファイバーと同様の製造装置を用い、作製条件を最適化、改良することで、数μ~数十μm径程度のコア径を有する光導波型シンチレータを製造するものである。コアのシンチレータ材の選択性が広く、産業技術を利用した量産や大口径化が容易である特徴がある。本物質および製造方法は国際特許出願を行った(WO2023/008101)。
英文摘要
昨年度までに有望と確認されたCsI/CsCl/NaCl 共晶体やBaCl2/NaCl/KClについて、大型化の検討を進めた。特に有望なBaCl2/NaCl/KClについて、発光中心となるTbやEuの濃度の最適化を進め、作製した共晶体インゴットからシンチレータプレートを試作した。、試作したシンチレータと光検出器を組合せたイメージング装置の試作を進め、spring-8において、平行度の 高いX線などのビームラインを活用した、イメージング試験を実施した。また、、高分解能放射線イメージング検出器を開発し、放射線の一種であるアルファ線の飛跡を短時間間隔のリアルタイム画像として可視化することに成功した。アルファ線は、物質中では数十マイクロメートル程度と極めて短い距離しか飛ばないことから、アルファ線の物質中の飛跡をリアルタイムで観察することは、これまで不可能と考えられていたが、今回の装置を利用して、シンチレータへのアルファ線の入射角度の違いによる形状の違いを利用して、アルファ線飛跡の三次元分布評価やアルファ線のエネルギーを評価できる可能性がある。一方で、自己組織化方の共晶体を利用した光導波型シンチレータでは、規則構造の線形性と規則性を確保した上で、大口径の高品質領域を得ることが困難であることが分かってきた。そこで、さらなる検討を進めた結果、バンドル光ファイバーと同様に、コアを低融点・高屈折率のハロゲン化物シンチレータとし、クラッドをガラスとすることで、光導波型シンチレータを製造する技術の開発に成功した。これは、光ファイバーと同様の製造装置を用い、作製条件を最適化、改良することで、数μ~数十μm径程度のコア径を有する光導波型シンチレータを製造するものである。コアのシンチレータ材の選択性が広く、産業技術を利用した量産や大口径化が容易である特徴がある。本物質および製造方法は国際特許出願を行った(WO2023/008101)。
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Development of X-ray Talbot-Lau imaging system using large area Tb doped GAP/α-Al2O3 eutectic scintillator plates
使用大面积 Tb 掺杂 GAP/α-Al2O3 共晶闪烁体板开发 X 射线 Talbot-Lau 成像系统
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[太田聡・堀之内武, Kei Kamada]
通讯作者:
Kei Kamada
DOI:
10.1016/j.optmat.2019.04.023
发表时间:
2019-06
期刊:
Optical Materials
影响因子:
3.9
作者:
[W. Chewpraditkul;N. Pattanaboonmee;O. Sakthong;K. Wantong;W. Chewpraditkul;A. Yoshikawa;K. Kamada]
通讯作者:
W. Chewpraditkul;N. Pattanaboonmee;O. Sakthong;K. Wantong;W. Chewpraditkul;A. Yoshikawa;K. Kamada
Structural analyses of Gd3(Al,Ga)5O12 garnet solid solutions via X-ray and UV absorption spectroscopy experiments for Gd atoms
通过 Gd 原子的 X 射线和紫外吸收光谱实验对 Gd3(Al,Ga)5O12 石榴石固溶体进行结构分析
DOI:
10.1016/j.jallcom.2021.159055
发表时间:
2021
期刊:
Journal of Alloys and Compounds
影响因子:
6.2
作者:
[Kitaura Mamoru, Kamada Kei, Ina Toshiaki, Yamane Hisanori, Ishizaki Manabu, Watanabe Shinta, Azuma Junpei, Yamamoto Isamu, Ohnishi Akimasa, Usuki Takeshi]
通讯作者:
Usuki Takeshi
Tungsten co-doping effects on Ce:Gd3Ga3Al2O12 scintillator grown by the micro-pulling down method
钨共掺杂对微下拉法生长Ce:Gd3Ga3Al2O12闪烁体的影响
DOI:
10.1016/j.jcrysgro.2020.125513
发表时间:
2020
期刊:
Journal of Crystal Growth
影响因子:
1.8
作者:
[Ueno Mutsumi, Kim Kyoung Jin, Kamada Kei, Nihei Takayuki, Yoshino Masao, Yamaji Akihiro, Toyoda Satoshi, Sato Hiroki, Yokota Yuui, Kurosawa Shunsuke, Ohashi Yuji, Nikl Martin, Kochurikhin Vladimir, Yoshikawa Akira]
通讯作者:
Yoshikawa Akira
Growth of Lu2O3 and HfO2 based high melting temperature single crystals by indirect heating method using arc plasma
电弧等离子体间接加热法生长Lu2O3和HfO2基高熔点单晶
DOI:
10.3390/cryst10070619
发表时间:
2020
期刊:
Crystals
影响因子:
2.7
作者:
[Kyoung Jin Kim, Kei Kamada, Rikito Murakami, Takahito Horiai, Shiori Ishikawa, Vladimir Kochurikhin, Masao Yoshino, Akihiro Yamaji, Yasuhiro Shoji, Shunsuke Kurosawa, Satoshi Toyoda, Hiroki Sato, Yuui Yokota, Yuji Ohashi, Akira Yoshikawa]
通讯作者:
Akira Yoshikawa
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