Development of Ultra-Short Pulse X-ray Imaging Method through High-Precision Wolter Mirror Fabrication

通过高精度 Wolter 镜制造开发超短脉冲 X 射线成像方法

基本信息

批准号：
19H00736
负责人：
Mimura Hidekazu
金额：
$ 28.37万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
起止时间：
2019-04-01 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（36）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Advanced fabrication technologies for ultraprecise replicated mirrors for x-ray telescopes

X 射线望远镜超精密复制镜的先进制造技术

DOI：
10.1117/12.2560892
发表时间：
2020
期刊：
SPIE Proceedings
影响因子：
0
作者：
Hidekazu Mimura;Gota Yamaguchi;Takehiro Kume;Yoko Takeo;Akinari Ito;Yusuke Matsuzawa;Takahiro Saito;Kentarou Hiraguri;Yusuke Takehara;Ayumu Takigawa;Keisuke Tamura;Tetsuo Kanoh;Kenji Tachibana;Hirokazu Hashizume;Ikuyuki Mitsuishi
通讯作者：
Ikuyuki Mitsuishi

Fabrication of soft x-ray monolithic Wolter mirror based on surface scanning measurement using touch probe

基于接触式探针表面扫描测量的软 X 射线单片 Wolter 镜的制作

DOI：
10.1063/5.0087171
发表时间：
2022
期刊：
Review of Scientific Instruments
影响因子：
1.6
作者：
Takehiro Kume;Kentaro Hiraguri;Yoichi Imamura;Yusuke Matsuzawa;Takahiro Saito;Hiroaki Miyashita;Yoko Takeo;Yasunori Senba;Hikaru Kishimoto;Haruhiko Ohashi,Hirokazu Hashizume;Hidekazu Mimura
通讯作者：
Hidekazu Mimura

X 線望遠鏡用ウォルターミラーの高精度作製プロセスの開発 ―電鋳プロセスにおけるミラー長手方向膜厚分布の均一化―

X射线望远镜用瓦尔特反射镜高精度制造工艺的开发 - 电铸工艺中均匀的反射镜纵向膜厚分布 -

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
伊藤旺成，伊藤駿佑，毛利柊太郎，山口豪太;三村秀和
通讯作者：
三村秀和

軟Ｘ線用集光ミラーの開発と大学研究の事業化の一例

软X射线聚焦镜的开发和大学研究商业化的例子

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
Takehiro Kume;Hirokazu Hashizume;Kentarou Hiraguri;Yusuke Matsuzawa;Yoichi Imamura;Hiroaki Miyashita;Takahiro Saito;Gota Yamaguchi;Yoko Takeo;Yasunori Senba;Hikaru Kishimoto;Haruhiko Ohashi;Hidekazu Mimura;長汐晃輔,;三村秀和
通讯作者：
三村秀和

X線宇宙望遠鏡用高精度大型ウォルターミラーの開発

X射线空间望远镜高精度大瓦尔特镜研制

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
K. Nakamura;N. Nagamura;K. Ueno;T. Taniguchi;K. Watanabe;K. Nagashio,;三村秀和
通讯作者：
三村秀和

DOI：
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作者：
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Mimura Hidekazu其他文献

Fabrication of ultrashort sub-meter-radius x-ray mirrors using dynamic stencil deposition with figure correction

使用动态模板沉积和图形校正制造超短亚米半径 X 射线反射镜

DOI：
10.1063/5.0135367
发表时间：
2023
期刊：
Review of Scientific Instruments
影响因子：
1.6
作者：
Shimamura Takenori;Takeo Yoko;Kimura Takashi;Perrin Francois;Vivo Amparo;Senba Yasunori;Kishimoto Hikaru;Ohashi Haruhiko;Mimura Hidekazu
通讯作者：
Mimura Hidekazu

An arrayed-window microfluidic device for observation of mixed nanoparticles with an X-ray free-electron laser

用于使用 X 射线自由电子激光观察混合纳米粒子的阵列窗口微流控装置

DOI：
10.1007/s10043-021-00716-x
发表时间：
2022
期刊：
Optical Review
影响因子：
1.2
作者：
Matsumoto Yutaka;Takeo Yoko;Egawa Satoru;Yamaguchi Gota;Yokomae Shunya;Takei Masashi;Yumoto Hirokatsu;Koyama Takahisa;Ohashi Haruhiko;Tono Kensuke;Yabashi Makina;Mimura Hidekazu;Kimura Takashi
通讯作者：
Kimura Takashi

Surface processing of PMMA and metal nano-particle resist by sub-micrometer focusing of coherent extreme ultraviolet high-order harmonics pulses

通过亚微米聚焦相干极紫外高次谐波脉冲对 PMMA 和金属纳米粒子抗蚀剂进行表面处理

DOI：
10.1364/ol.392695
发表时间：
2020
期刊：
Optics Letters
影响因子：
3.6
作者：
Sakaue Kazuyuki;Motoyama Hiroto;Hayashi Ryosuke;Iwasaki Atsushi;Mimura Hidekazu;Yamanouchi Kaoru;Shibuya Tatsunori;Ishino Masahiko;Dinh Thanh-Hung;Ogawa Hiroshi;Higashiguchi Takeshi;Nishikino Masaharu;Kuroda Ryunosuke
通讯作者：
Kuroda Ryunosuke

Submicron structures created on Ni thin film by submicron focusing of femtosecond EUV light pulses

通过飞秒 EUV 光脉冲的亚微米聚焦在镍薄膜上创建亚微米结构

DOI：
10.35848/1882-0786/acaebe
发表时间：
2023
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
Motoyama Hiroto;Iwasaki Atsushi;Mimura Hidekazu;Yamanouchi Kaoru
通讯作者：
Yamanouchi Kaoru

Design of soft x-ray fluorescence microscopy beyond 100-nm spatial resolution with ultrashort Kirkpatrick-Baez mirror

使用超短 Kirkpatrick-Baez 镜设计超过 100 nm 空间分辨率的软 X 射线荧光显微镜

DOI：
10.1117/12.2632949
发表时间：
2022
期刊：
Advances in X-Ray/EUV Optics and Components XVII
影响因子：
0
作者：
Shimamura Takenori;Takeo Yoko;Moriya Fumika;Kimura Takashi;Shimura Mari;Senba Yasunori;Kishimoto Hikaru;Ohashi Haruhiko;Shimba Kenta;Jimbo Yasuhiko;Mimura Hidekazu
通讯作者：
Mimura Hidekazu