相転移温度近傍における電気/磁気双極子秩序の同時制御による新奇冷却素子の創製

通过同时控制相变温度附近的电/磁偶极子级数创建新型冷却元件

基本信息

  • 批准号:
    19K04229
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.75万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2024-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

微小領域における高精度な温度制御に必要な、駆動部を持たず小型化の可能な冷却技術として、制御の容易な電場を用いる電気熱量効果を利用する冷却技術が注目されている。その作業物質には、電場によって電気双極子の秩序が大きく変化する強誘電-常誘電相転移温度を動作温度付近に有する強誘電体が有力な候補となっている。一方、電気と磁気の間に電気磁気効果とよばれる交差相関が見られ、印加した電場によって分極だけでなく磁気スピンも制御することが可能とされる「マルチフェロイクス物質」を作業物質に用いることができれば、分極と磁気スピンの両方のエントロピー変化を同時に利用することで、より効率の良い冷却システムの構築が期待できる。本研究では、高電場印加の可能な電気絶縁性に優れた高品質薄膜作製プロセスを確立し、マルチフェロイクス物質の相転移温度近傍における分極と磁気スピンの相関について明らかにすることで、新規冷却素子の創生についての知見を得ることを目的としている。今年度は、ドメインの形態を制御した薄膜の作製と、分極および磁気スピン秩序の相関の評価について取り組んだ。しかしながら、年度当初に成膜装置が故障し、修理部品の入手が困難であったために復旧が年度末となり、当初計画していた薄膜作製を進めることができなかった。そこで、過年度までに作製していた薄膜を用いて、分極および磁気スピン秩序の相関を評価するため、既存の走査型プローブ顕微鏡にて、同一視野における圧電応答および磁気応答を観察するための測定系を構築した。
High precision temperature control is necessary in small areas, and cooling technology for miniaturization of moving parts and easy use of electric field control and electric heat effect is attracting attention. The working substance, the electric field, the order of the electric dipole, the strong inductance-normal inductance-phase shift temperature, the operating temperature, and the strong inductance-candidate. The effect of magnetic field on magnetic field is different from that of electric field. The effect of magnetic field is different from that of electric field. The effect of magnetic field on magnetic field is different from that of electric field. This study aims to establish the possible high electric insulation properties of high quality thin films, and to establish the phase shift temperature proximity of materials with high electric field and high magnetic field. This year, the morphology of the film is controlled by the film, the polarization is controlled by the magnetic field, and the related evaluation is carried out. The film forming equipment at the beginning of the year has failed, and it is difficult to repair the parts at the beginning of the year. The measurement system of the voltage and magnetic field in the same field of view is constructed.

项目成果

期刊论文数量(3)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
BiFeO3エピタキシャル薄膜の圧電特性における応力の効果
应力对BiFeO3外延薄膜压电性能的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    泉宏和;吉村武;藤村紀文
  • 通讯作者:
    藤村紀文
アシストレーザー光照射PLD法により作製したBiFeO3薄膜の結晶性と圧電特性
辅助激光束辐照PLD法制备BiFeO3薄膜的结晶度和压电性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    泉宏和;吉村武;藤村紀文
  • 通讯作者:
    藤村紀文
BiFeO3-LaAlO3系固溶体薄膜の焦電特性
BiFeO3-LaAlO3固溶体薄膜的热释电性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    泉宏和;吉村武;藤村紀文
  • 通讯作者:
    藤村紀文
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

泉 宏和其他文献

多価イオンを照射した自立型単層グラフェンのポテンシャル効果
多价离子辐照自支撑单层石墨烯的潜在效应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    和地 威幸;吉村 大地;藤井 俊治郎;本多 信一;西田 尚史;櫻井 誠;泉 宏和
  • 通讯作者:
    泉 宏和

泉 宏和的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

相似海外基金

PZTナノロッドの分極のソフト化による巨大圧電応答の実現と非鉛材料への展開
软化PZT纳米棒极化实现巨大压电响应及其在无铅材料中的应用
  • 批准号:
    19J21955
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
非鉛強誘電体エピタキシャル薄膜における電界誘起相転移を用いた巨大圧電応答
无铅铁电外延薄膜中利用电场诱导相变的巨压电响应
  • 批准号:
    16656098
  • 财政年份:
    2004
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
電極表面の微少応力変化測定における圧電応答法の適用に関する研究
压电响应法测量电极表面微小应力变化的应用研究
  • 批准号:
    05750637
  • 财政年份:
    1993
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了