TEM operand and first principles analysis of mechanisms of time-dependent oxide memristor properties

氧化物忆阻器特性随时间变化的 TEM 操作数和第一性原理分析

基本信息

  • 批准号:
    19K04468
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2022-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(31)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
平面型TiO2-xメモリスタ素子における抵抗変化領域のその場TEM観察
平面 TiO2-x 忆阻器元件电阻变化区域的原位 TEM 观察
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    谷口奈穂;藤平哲也;林侑介;酒井朗
  • 通讯作者:
    酒井朗
4端子TiO2-x薄膜メモリスタ素子によるシナプス特性の実装
使用 4 端 TiO2-x 薄膜忆阻器元件实现突触特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    三宅亮太郎,林侑介;藤平哲也,酒井朗
  • 通讯作者:
    藤平哲也,酒井朗
Versatile Functionality of Four-Terminal TiO2-x Memristive Devices as Artificial Synapses for Neuromorphic Computing
  • DOI:
    10.1021/acsaelm.2c00161
  • 发表时间:
    2022-05-24
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.7
  • 作者:
    Miyake, Ryotaro;Nagata, Zenya;Sakai, Akira
  • 通讯作者:
    Sakai, Akira
4端子平面型TiO2-x メモリスタ素子における酸素空孔分布2次元制御に基づくSTP・LTP特性の実装
基于四端平面 TiO2-x 忆阻器元件中氧空位分布的二维控制实现 STP/LTP 特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    安達健太;酒井朗;藤平哲也;林侑介;三宅亮太郎
  • 通讯作者:
    三宅亮太郎
Researchgate Tohei's personal page
研究门东平的个人页面
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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Tohei Tetsuya其他文献

Analysis of Ti valence state in resistive switching region of rutile TiO2-x four-terminal memristive device
金红石TiO2-x四端忆阻器件阻变区Ti价态分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yamaguchi Kengo;Takeucni Shotaro;Tohei Tetsuya;Ikarashi Nobuyuki;Sakai Akira
  • 通讯作者:
    Sakai Akira
Resistive switching characteristics of four-terminal TiO2-x single crystal memristive devices
四端TiO2-x单晶忆阻器件的阻变特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shimizu Takuma;Takeuchi Shotaro;Tohei Tetsuya;Sakai Akira
  • 通讯作者:
    Sakai Akira
Valence state analysis of Ti in resistive switching region of rutile TiO2-x single crystals memristor
金红石TiO2-x单晶忆阻器阻变区Ti的价态分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yamaguchi Kengo;Takeuchi Shotaro;Shimizu Takuma;Tohei Tetsuya;Ikarasi Nobuyuki;Sakai Akira
  • 通讯作者:
    Sakai Akira
ドナー密度分布制御型メモリスタ素子における抵抗変化機構の有限要素法シミュレーション
施主密度分布控制忆阻元件电阻变化机理的有限元法模拟
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yamaguchi Kengo;Takeuchi Shotaro;Tohei Tetsuya;Ikarashi Nobuyuki;Sakai Akira;永田善也,藤平哲也,酒井朗
  • 通讯作者:
    永田善也,藤平哲也,酒井朗
4端子TiO2単結晶メモリスタの抵抗変化特性
四端TiO2单晶忆阻器的阻值变化特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shimizu Takuma;Takeuchi Shotaro;Tohei Tetsuya;Sakai Akira;清水拓磨,竹内正太郎,藤平哲也,酒井朗
  • 通讯作者:
    清水拓磨,竹内正太郎,藤平哲也,酒井朗

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