耐摩耗性高摺動膜の超高速成膜メカニズム解明による大面積均一成膜技術の開発
耐摩耗性高摺動膜の超高速成膜メカニズム解明による大面積均一成膜技術の開発
阐明耐磨高滑膜的超高速成膜机理，开发大面积均匀成膜技术
批准号：
24K07452
负责人：
針谷 達
金额：
$3.0万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2024
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2024-04-01 至 2027-03-31
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シングルパルスカーボンイオン照射を用いた新炭素同素体Qカーボン薄膜の創製
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批准号：21K13908
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项目类别：Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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资助金额：$2.91万
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财政年份：2021
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负责人：針谷 達
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依托单位：
プラズマエッチングによるナノ構造発現メカニズムの解析と応用
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批准号：12J09423
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项目类别：Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额：$1.73万
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财政年份：2012
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负责人：針谷 達
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依托单位：