C60イオンに対する阻止能は炭素イオンの60倍か?~二次粒子測定によるアプローチ
C60イオンに対する阻止能は炭素イオンの60倍か?~二次粒子測定によるアプローチ
批准号:
18K05005
负责人:
鳴海 一雅
金额:
$2.83万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2018
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2018-04-01 至 2024-03-31
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英文摘要
従来の重イオンをはるかに超える高密度エネルギー付与のツールとしてビーム利用の拡大が期待されるフラーレンイオンについて、「C60イオンに対する固体標的の阻止能が、同じ速度の炭素イオンに対する阻止能の60倍になるのか?」という疑問に答えることを全体構想とする。令和4年度は、電子的阻止能に密接に関係する二次電子収量を炭素薄膜標的について測定した。測定には、量子科学技術研究開発機構高崎量子応用研究所イオン照射研究施設(TIARA)の400kVイオン注入装置、3MVタンデム加速器を使用し、540 keV~6 MeVのC60イオン、及びC60イオンと同じ速度の30~150 keVのCイオンを用いた。一方、核的阻止能と密接に関係するスパッタリング収量の測定については、0.5~150 keV/atomのC60イオン、C70イオン、Cイオン照射した炭素標的のスパッタリング収量の測定を前年度に終え、現在、結果を整理・解析中である。また、C60イオン、C70イオンによる金標的のスパッタリングに関しては、入射イオン1原子当たりで比べるとスパッタリング収量がほぼ等しいこと、速度の等しいCイオンによるスパッタリング収量の120~240倍程度になり、核的阻止能に依存することを明らかにした。以上の結果をまとめて国際会議で発表した。
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Sputtering Yields of Si Bombarded with 10-540-keV C60 Ions
用 10-540-keV C60 离子轰击 Si 的溅射产率
DOI:
10.3390/qubs6010012
发表时间:
2022
期刊:
Quantum Beam Science
影响因子:
1.4
作者:
[Narumi Kazumasa, Naramoto Hiroshi, Yamada Keisuke, Chiba Atsuya, Saitoh Yuichi]
通讯作者:
Saitoh Yuichi
Measurement of Au sputtering yields by C60-ion bombardment
通过 C60 离子轰击测量 Au 溅射产率
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[鳴海 一雅, 山田 圭介, 平野 貴美, 千葉 敦也, 百合 庸介, 齋藤 勇一]
通讯作者:
齋藤 勇一
Recent Activities with the Use of C60 Ion Beams in TIARA, QST/Takasaki
最近在 TIARA、QST/高崎使用 C60 离子束的活动
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[鳴海 一雅, 千葉 敦也, 平野 貴美, 山田 圭介, 斎藤 勇一]
通讯作者:
斎藤 勇一
C60イオン衝撃による金のスパッタリング収量の測定
C60离子轰击金溅射产率的测定
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[鳴海 一雅, 山田 圭介, 千葉 敦也, 平野 貴美, 斎藤 勇一]
通讯作者:
斎藤 勇一
Development of a highly-intense negative C60 ion source for a tandem accelerator and its applications
串列加速器高强负C60离子源的研制及其应用
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[鳴海 一雅, 千葉 敦也, 平野 貴美, 山田 圭介, 斎藤 勇一]
通讯作者:
斎藤 勇一
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