Molecular dynamics simulations to elucidate the mechanism of the universal behavior of molecular assemblies observed in the processes of organic semiconductor thin film growth

分子动力学模拟阐明有机半导体薄膜生长过程中观察到的分子组装体普遍行为的机制

基本信息

  • 批准号：
    18K05253
  • 负责人：
    Ikeda Susumu
  • 金额：
    $ 2.83万
  • 依托单位：
    Tohoku University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2018
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2018-04-01 至 2021-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量（0）
Molecular dynamics simulations of organic semiconductor thin film growth: stability of nuclei and their growth
有机半导体薄膜生长的分子动力学模拟：核的稳定性及其生长
  • DOI：
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Yoshioka Taiyo;Kameda Tsunenori;Susumu Ikeda
  • 通讯作者：
    Susumu Ikeda
有機半導体薄膜成長の分子動力学シミュレーション - 立った分子からなる核の安定性と成長 -
有机半导体薄膜生长的分子动力学模拟 - 由站立分子组成的核的稳定性和生长 -
  • DOI：
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Moseti;Yoshioka;Kameda;Nakazawa;Mizuho Kondo，Rin Nizuka，Koichi Kotera，Wataru Yamaguchi，Ryohei Fukae，Nobuhiro Kawatsuki;池田　進
  • 通讯作者：
    池田　進
Molecular dynamics simulations of pentacene thin film growth: Stability of nuclei comprising standing molecules and their subsequent growth
并五苯薄膜生长的分子动力学模拟：由直立分子组成的核的稳定性及其后续生长
  • DOI：
    10.7567/1882-0786/ab5c44
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
    Applied Physics Express
  • 影响因子：
    2.3
  • 作者：
    吉岡太陽;伊藤朱里，稲田翔伍，近藤瑞穂，川月喜弘;吉岡太陽;Susumu Ikeda
  • 通讯作者：
    Susumu Ikeda
分子動力学シミュレーションで見たペンタセン臨界核の挙動
通过分子动力学模拟观察并五苯临界核的行为
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    吉岡太陽;伊藤朱里，稲田翔伍，近藤瑞穂，川月喜弘;吉岡太陽;Susumu Ikeda;多田幹生，近藤瑞穂，川月喜弘;吉岡太陽;池田　進
  • 通讯作者：
    池田　進
分子動力学シミュレーションを用いたペンタセンの臨界核に関する考察
使用分子动力学模拟考虑并五苯的临界核
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    吉岡太陽;伊藤朱里，稲田翔伍，近藤瑞穂，川月喜弘;吉岡太陽;Susumu Ikeda;多田幹生，近藤瑞穂，川月喜弘;吉岡太陽;池田　進;西薗宗輝，近藤瑞穂，川月喜弘;池田　進
  • 通讯作者：
    池田　進
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  • 影响因子：
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  • 作者：
    Matsumoto Takahiro;Ohhara Takashi;Sugimoto Hidehiko;Bennington Stephen M.;Ikeda Susumu
  • 通讯作者：
    Ikeda Susumu
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通过分子动力学模拟研究氧化钇稳定氧化锆中跨/沿对称倾斜晶界的离子扩散
  • DOI：
    10.1016/j.ssi.2023.116163
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    2023
  • 期刊：
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  • 影响因子：
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  • 作者：
    Ikeda Susumu;Feng Bin;Shibata Naoya;Ikuhara Yuichi
  • 通讯作者：
    Ikuhara Yuichi

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  • 财政年份：
    2023
  • 资助金额：
    $ 2.83万
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    Fellowship Award
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  • 财政年份：
    2023
  • 资助金额：
    $ 2.83万
  • 项目类别：
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