Development of novel fabrication process of amorphous oxide semiconductor using field effect
利用场效应开发非晶氧化物半导体新型制造工艺
基本信息
- 批准号:18K13990
- 负责人:
- 金额:$ 2.66万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
- 财政年份:2018
- 资助国家:日本
- 起止时间:2018-04-01 至 2020-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(23)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
アモルファス酸化ガリウムを用いたショットキーバリアダイオード特性と光応答
非晶氧化镓肖特基势垒二极管的特性和光响应
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:笠井 悠莉華;井手啓介;片瀬貴義;平松秀典;細野秀雄;神谷利夫
- 通讯作者:神谷利夫
Effects of base pressure on optoelectronic properties of amorphous In-Ga-Zn-O
基础压力对非晶In-Ga-Zn-O光电性能的影响
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Ide;K. Takenaka;Y. Setsuhara;A. Hiraiwa;H. Kawarada;T. Katase;H. Hiramatsu;H. Hosono;T. Kamiya
- 通讯作者:T. Kamiya
Hydrogen doping and carrier transport properties of amorphous Ga-O
非晶Ga-O的氢掺杂和载流子传输特性
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Yurika Kasai;Keisuke Ide;Takayoshi Katase;Hidenori Hiramatsu;Hideo Hosono;Toshio Kamiya
- 通讯作者:Toshio Kamiya
Direct-current driven electroluminescent device with amorphous oxide semiconductor thin-film phosphor
非晶氧化物半导体薄膜荧光粉直流驱动电致发光器件
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Yurika Kasai;Keisuke Ide;Takayoshi Katase;Hidenori Hiramatsu;Hideo Hosono;Toshio Kamiya;G. F. Harrington;K. Ide
- 通讯作者:K. Ide
Depth Analysis of Near Valence Band Mximum Defect States in Amorphous Oxide Semiconductors: In-Ga-Zn-O
非晶氧化物半导体 In-Ga-Zn-O 近价带最大缺陷态的深度分析
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Keisuke Ide;Masato Ota;Takayoshi Katase;Hidenori Hiramatsu;Shigenori Ueda;Hideo Hosono;and Toshio Kamiya
- 通讯作者:and Toshio Kamiya
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and Toshio Kamiya
単結晶の欠陥制御と量子機能開拓
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Shigeru Kimura;Akihiro Shiraishi;Xinyi He;Takayoshi Katase;Keisuke Ide;Hidenori Hiramatsu;Hideo Hosono;and Toshio Kamiya;斉藤 光;都藤悠佑;Kotaro Takeyasu;會澤純雄,藤井 奈央子,桑 静,平原英俊;谷口 尚 - 通讯作者:
谷口 尚
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