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Extension of dopant occupation site analysis by electron channeling X-ray spectroscopy and electron diffraction mapping

通过电子通道 X 射线光谱和电子衍射图扩展掺杂剂占据位置分析

基本信息

批准号：
18K13991
负责人：
Ohtsuka Masahiro
金额：
$ 2.66万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2018
资助国家：
日本
起止时间：
2018-04-01 至 2020-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（15）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Precession electron diffraction法の鉱物への適用と評価

进动电子衍射法在矿物中的应用与评价

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
三宅亮;瀬戸雄介;伊神洋平;大塚真弘
通讯作者：
大塚真弘

ビームロッキング EDS/EELS分析：電子チャネリング効果を活用したサイト選択的定量組成・電子状態評価

锁束 EDS/EELS 分析：利用电子沟道效应进行位点选择性定量成分/电子态评估

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
JEVASUWAN Wipakorn;ZHANG Xiaolong;FUKATA Naoki;大塚真弘;大塚真弘
通讯作者：
大塚真弘

Multiway hyperspectral data analysis of trace element/valence-state in W-type ferrite magnet by concurrent high-angular resolution electron channeling X-ray/electron spectroscopy

通过并行高角分辨率电子通道 X 射线/电子能谱对 W 型铁氧体磁体中痕量元素/价态进行多路高光谱数据分析

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Masahiro Ohtsuka;Souta Yanagihara;Jakob Spiegelberg;Jan Rusz and Shunsuke Muto
通讯作者：
Jan Rusz and Shunsuke Muto

電子チャネリングを利用した元素／サイト選択的化学分析

使用电子通道进行元素/位点选择性化学分析

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
武藤俊介;大塚真弘
通讯作者：
大塚真弘

電子線チャネリングX線分光装置の開発

电子通道X射线能谱仪的研制

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
阿南義弘;大塚真弘;武藤俊介
通讯作者：
武藤俊介

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Ohtsuka Masahiro其他文献

Quantitative Atomic-Site Analysis of Functional Dopants/Point Defects in Crystalline Materials by Electron-Channeling-Enhanced Microanalysis

通过电子通道增强微量分析对晶体材料中的功能掺杂剂/点缺陷进行定量原子位点分析

DOI：
10.3791/62015
发表时间：
2021
期刊：
Journal of Visualized Experiments
影响因子：
0
作者：
Ohtsuka Masahiro;Muto Shunsuke
通讯作者：
Muto Shunsuke

アルミニウム合金とCFRTP積層板の異種接合の強度と破壊形態に及ぼす表面ナノ構造の影響

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DOI：
发表时间：
2020
期刊：
日本複合材料学会誌
影响因子：
0
作者：
Yamada Taiki;Ohtsuka Masahiro;Takahashi Yoshimasa;Yoshino Haruhiko;Amma Shin-ichi;Muto Shunsuke;和田啓汰，大田宙起，齋藤慧，クリスティーンムンクイエスパーセン，細井厚志，川田宏之
通讯作者：
和田啓汰，大田宙起，齋藤慧，クリスティーンムンクイエスパーセン，細井厚志，川田宏之

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Si/Cu微量元素界面分层裂纹萌生强度规律-界面边缘形状的影响-

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
Yamada Taiki;Ohtsuka Masahiro;Takahashi Yoshimasa;Yoshino Haruhiko;Amma Shin-ichi;Muto Shunsuke;和田啓汰，大田宙起，齋藤慧，クリスティーンムンクイエスパーセン，細井厚志，川田宏之;森井裕介，高橋可昌，宅間正則，齋藤賢一，佐藤知広
通讯作者：
森井裕介，高橋可昌，宅間正則，齋藤賢一，佐藤知広

Extension of focal depth by electron quasi-Bessel beam in atomic-resolution scanning transmission electron microscopy

原子分辨率扫描透射电子显微镜中电子准贝塞尔束焦深的扩展

DOI：
10.35848/1882-0786/ac96ce
发表时间：
2022
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
Ishida Takafumi;Owaki Takeshi;Ohtsuka Masahiro;Kuwahara Makoto;Saitoh Koh;Kawasaki Tadahiro
通讯作者：
Kawasaki Tadahiro

Measurement of nanoscale local stress distribution in phase-separated glass using scanning transmission electron microscopy-cathodoluminescence

使用扫描透射电子显微镜-阴极发光测量相分离玻璃中的纳米级局部应力分布

DOI：
10.1016/j.mtla.2019.100578
发表时间：
2020
期刊：
Materialia
影响因子：
3.4
作者：
Yamada Taiki;Ohtsuka Masahiro;Takahashi Yoshimasa;Yoshino Haruhiko;Amma Shin-ichi;Muto Shunsuke
通讯作者：
Muto Shunsuke