Site-selective analysis of cathodoluminescence of atoms/vacancies by using electron channeling effect

利用电子沟道效应对原子/空位阴极发光进行位点选择性分析

基本信息

批准号：
26870271
负责人：
Ohtsuka Masahiro
金额：
$ 2.5万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
起止时间：
2014-04-01 至 2016-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（9）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

ビームロッキングEDXを用いたドーパント占有サイト評価

使用束锁定 EDX 评估掺杂剂占据位点

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
大塚真弘;武藤俊介
通讯作者：
武藤俊介

Site occupancy determination of a dopant substituting for multiple sites using beam-rocking TEM-EDX and statistical analysis

使用梁摇动 TEM-EDX 和统计分析确定替代多个位点的掺杂剂的位点占用率

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
Masahiro Ohtsuka;Shunsuke Muto;Kazuyoshi Tatsumi
通讯作者：
Kazuyoshi Tatsumi

統計的ALCHEMI/HARECXS法を用いたZn添加W型フェライト中のZn占有サイト解析

使用统计 ALCHEMI/HARECXS 方法分析 Zn 掺杂 W 型铁氧体中的 Zn 占据位点

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
大塚真弘;武藤俊介;阿南義弘;小林義徳
通讯作者：
小林義徳

統計的ALCHEMI法と動力学計算を組み合わせた添加元素占有サイトの定量評価

结合统计ALCHEMI方法和动力学计算对附加元素占据位点进行定量评估

DOI：
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
大塚真弘;武藤俊介;市川貴浩;巽一厳
通讯作者：
巽一厳

統計的ALCHEMI法を用いた占有サイト評価における各種実験条件の依存性

使用统计 ALCHEMI 方法评估占用场地时各种实验条件的依赖性

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
大塚真弘;武藤俊介
通讯作者：
武藤俊介

DOI：
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作者：
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Ohtsuka Masahiro其他文献

Quantitative Atomic-Site Analysis of Functional Dopants/Point Defects in Crystalline Materials by Electron-Channeling-Enhanced Microanalysis

通过电子通道增强微量分析对晶体材料中的功能掺杂剂/点缺陷进行定量原子位点分析

DOI：
10.3791/62015
发表时间：
2021
期刊：
Journal of Visualized Experiments
影响因子：
0
作者：
Ohtsuka Masahiro;Muto Shunsuke
通讯作者：
Muto Shunsuke

アルミニウム合金とCFRTP積層板の異種接合の強度と破壊形態に及ぼす表面ナノ構造の影響

表面纳米结构对铝合金与CFRTP层合板异种接头强度和断口形貌的影响

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
日本複合材料学会誌
影响因子：
0
作者：
Yamada Taiki;Ohtsuka Masahiro;Takahashi Yoshimasa;Yoshino Haruhiko;Amma Shin-ichi;Muto Shunsuke;和田啓汰，大田宙起，齋藤慧，クリスティーンムンクイエスパーセン，細井厚志，川田宏之
通讯作者：
和田啓汰，大田宙起，齋藤慧，クリスティーンムンクイエスパーセン，細井厚志，川田宏之

Si/Cuマイクロ要素の界面剥離き裂発生強度則－界面端形状の影響－

Si/Cu微量元素界面分层裂纹萌生强度规律-界面边缘形状的影响-

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
Yamada Taiki;Ohtsuka Masahiro;Takahashi Yoshimasa;Yoshino Haruhiko;Amma Shin-ichi;Muto Shunsuke;和田啓汰，大田宙起，齋藤慧，クリスティーンムンクイエスパーセン，細井厚志，川田宏之;森井裕介，高橋可昌，宅間正則，齋藤賢一，佐藤知広
通讯作者：
森井裕介，高橋可昌，宅間正則，齋藤賢一，佐藤知広

Extension of focal depth by electron quasi-Bessel beam in atomic-resolution scanning transmission electron microscopy

原子分辨率扫描透射电子显微镜中电子准贝塞尔束焦深的扩展

DOI：
10.35848/1882-0786/ac96ce
发表时间：
2022
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
Ishida Takafumi;Owaki Takeshi;Ohtsuka Masahiro;Kuwahara Makoto;Saitoh Koh;Kawasaki Tadahiro
通讯作者：
Kawasaki Tadahiro

Measurement of nanoscale local stress distribution in phase-separated glass using scanning transmission electron microscopy-cathodoluminescence

使用扫描透射电子显微镜-阴极发光测量相分离玻璃中的纳米级局部应力分布

DOI：
10.1016/j.mtla.2019.100578
发表时间：
2020
期刊：
Materialia
影响因子：
3.4
作者：
Yamada Taiki;Ohtsuka Masahiro;Takahashi Yoshimasa;Yoshino Haruhiko;Amma Shin-ichi;Muto Shunsuke
通讯作者：
Muto Shunsuke