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{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

Formation of 2D materials through a far-UV photochemical reaction at the interface between carbon and silicon oxide.

通过碳和氧化硅界面上的远紫外光化学反应形成二维材料。

基本信息

批准号：
18K18946
负责人：
Sugimura Hiroyuki
金额：
$ 3.99万
依托单位：
Kyoto University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
起止时间：
2018-06-29 至 2020-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（4）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

酸化グラフェンの低波長VUV光還元

氧化石墨烯的低波长真空紫外光还原

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
岡本克文;○宇都宮徹;一井崇;杉村博之
通讯作者：
杉村博之

真空紫外光による有機材料表面改質

利用真空紫外光对有机材料进行表面改性

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
光学
影响因子：
0
作者：
S.Lin　H.Okuda,　K.Matsumoto;K.Sato;林杉　奥田浩司　松本克史　佐藤和史;杉村博之
通讯作者：
杉村博之

Ultra-Violet Photochemistry of Graphene Oxide

氧化石墨烯的紫外光化学

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
S.Lin　H.Okuda,　K.Matsumoto;K.Sato;林杉　奥田浩司　松本克史　佐藤和史;杉村博之;S.Lin H.Okuda,Y.Nishikawa;Hiroyuki Sugimura
通讯作者：
Hiroyuki Sugimura

Photoreduction of Graphene Oxide by Deuterium Lamp

氘灯光还原氧化石墨烯

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Katsufumi Okamoto;Toru Utsunomiya;Takashi Ichii;Hiroyuki Sugimura
通讯作者：
Hiroyuki Sugimura

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

Sugimura Hiroyuki其他文献

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氧化石墨烯的热辅助光还原

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
Tu Yudi;Utsunomiya Toru;Ichii Takashi;Sugimura Hiroyuki;屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之
通讯作者：
屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之

日本古代における日蝕と時刻

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DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
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通讯作者：
吉田拓矢

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通讯作者：
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DOI：
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发表时间：
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期刊：
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影响因子：
1.5
作者：
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通讯作者：
Sugimura Hiroyuki

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DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
Tu Yudi;Utsunomiya Toru;Ichii Takashi;Sugimura Hiroyuki;屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之;Yudi Tu，Toru Utsunomiya，Takashi Ichii，Hiroyuki Sugimura;屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之
通讯作者：
屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之