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The graphene/silicon photoelectrode for solar energy conversion systems

用于太阳能转换系统的石墨烯/硅光电极

基本信息

批准号：
15K14161
负责人：
Sugimura Hiroyuki
金额：
$ 2.5万
依托单位：
Kyoto University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2015
资助国家：
日本
起止时间：
2015-04-01 至 2016-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（8）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

水素終端化シリコンへの酸化グラフェンの固定化による高潤滑表面の作製

通过将氧化石墨烯固定在氢封端硅上制造高度润滑的表面

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
國府翔;Harshal P. Mungse;宇都宮徹;一井崇;Om P. Khatri;杉村博之
通讯作者：
杉村博之

酸化グラフェンの水素終端化シリコン基板への固定化とその光電極特性

氢封端硅衬底上氧化石墨烯的固定化及其光电极性能

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
Sho Kokufu;Yudi Tu;Takashi Ichii;Toru Utsunomiya;Hiroyuki Sugimura;國府翔,屠宇迪,一井崇,宇都宮徹,杉村博之;國府翔,屠宇迪,一井崇,宇都宮徹,杉村博之
通讯作者：
國府翔,屠宇迪,一井崇,宇都宮徹,杉村博之

グラフェン誘導体被覆シリコン電極の電子移動特性

石墨烯衍生物涂覆的硅电极的电子传输性能

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
S. Morimoto;H. Yukawa;Y. Murata;國府翔，宇都宮徹，曽我正寛，寶雄也，一井崇，杉村博之
通讯作者：
國府翔，宇都宮徹，曽我正寛，寶雄也，一井崇，杉村博之

Immobilization and photoreduction of graphene oxide on hydrogen–terminated silicon

氧化石墨烯在氢气上的固定化和光还原

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
Sho Kokufu;Yudi Tu;Takashi Ichii;Toru Utsunomiya;Hiroyuki Sugimura
通讯作者：
Hiroyuki Sugimura

水素終端化シリコン基板と酸化グラフェンの界面化学反応と電子移動特性

氢封端硅衬底与氧化石墨烯的界面化学反应及电子传递特性

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
Sho Kokufu;Yudi Tu;Takashi Ichii;Toru Utsunomiya;Hiroyuki Sugimura;國府翔,屠宇迪,一井崇,宇都宮徹,杉村博之
通讯作者：
國府翔,屠宇迪,一井崇,宇都宮徹,杉村博之

DOI：
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作者：
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Sugimura Hiroyuki其他文献

酸化グラフェンの熱アシスト光還元

氧化石墨烯的热辅助光还原

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
Tu Yudi;Utsunomiya Toru;Ichii Takashi;Sugimura Hiroyuki;屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之
通讯作者：
屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之

日本古代における日蝕と時刻

古代日本的日食和时间

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Yamada Yuya;Ichii Takashi;Utsunomiya Toru;Kimura Kuniko;Kobayashi Kei;Yamada Hirofumi;Sugimura Hiroyuki;Аяко Кадзи;吉田拓矢
通讯作者：
吉田拓矢

Chemical etching of InP assisted by graphene oxide

氧化石墨烯辅助的InP化学蚀刻

DOI：
10.35848/1347-4065/acc03a
发表时间：
2023
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Kubota Wataru;Utsunomiya Toru;Ichii Takashi;Sugimura Hiroyuki
通讯作者：
Sugimura Hiroyuki

Protective layer for cycloolefin polymer against an aromatic solvent prepared by chemical vapor deposition using cyclosiloxane as a raw molecule

以环硅氧烷为原料分子通过化学气相沉积制备的环烯烃聚合物对芳香族溶剂的保护层

DOI：
10.1016/j.tsf.2017.07.026
发表时间：
2017
期刊：
Thin Solid Films
影响因子：
2.1
作者：
Utsunomiya Toru;Kanzawa Taiki;Ichii Takashi;Sugimura Hiroyuki
通讯作者：
Sugimura Hiroyuki

KMnO4/H+二次酸化による酸化グラフェンの蛍光増強

KMnO4/H+二次氧化增强氧化石墨烯的荧光

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
Tu Yudi;Utsunomiya Toru;Ichii Takashi;Sugimura Hiroyuki;屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之;Yudi Tu，Toru Utsunomiya，Takashi Ichii，Hiroyuki Sugimura;屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之
通讯作者：
屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之