The graphene/silicon photoelectrode for solar energy conversion systems
The graphene/silicon photoelectrode for solar energy conversion systems
批准号:
15K14161
负责人:
Sugimura Hiroyuki
金额:
$2.5万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-04-01 至 2016-03-31
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水素終端化シリコンへの酸化グラフェンの固定化による高潤滑表面の作製
通过将氧化石墨烯固定在氢封端硅上制造高度润滑的表面
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[國府 翔, Harshal P. Mungse, 宇都宮 徹, 一井 崇, Om P. Khatri, 杉村 博之]
通讯作者:
杉村 博之
酸化グラフェンの水素終端化シリコン基板への固定化とその光電極特性
氢封端硅衬底上氧化石墨烯的固定化及其光电极性能
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Sho Kokufu, Yudi Tu, Takashi Ichii, Toru Utsunomiya, Hiroyuki Sugimura, 國府 翔,屠 宇迪,一井 崇,宇都宮 徹,杉村 博之, 國府 翔,屠 宇迪,一井 崇,宇都宮 徹,杉村 博之]
通讯作者:
國府 翔,屠 宇迪,一井 崇,宇都宮 徹,杉村 博之
グラフェン誘導体被覆シリコン電極の電子移動特性
石墨烯衍生物涂覆的硅电极的电子传输性能
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Morimoto, H. Yukawa, Y. Murata, 國府 翔,宇都宮 徹,曽我 正寛,寶 雄也,一井 崇,杉村 博之]
通讯作者:
國府 翔,宇都宮 徹,曽我 正寛,寶 雄也,一井 崇,杉村 博之
Immobilization and photoreduction of graphene oxide on hydrogen–terminated silicon
氧化石墨烯在氢气上的固定化和光还原
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Sho Kokufu, Yudi Tu, Takashi Ichii, Toru Utsunomiya, Hiroyuki Sugimura]
通讯作者:
Hiroyuki Sugimura
水素終端化シリコン基板と酸化グラフェンの界面化学反応と電子移動特性
氢封端硅衬底与氧化石墨烯的界面化学反应及电子传递特性
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Sho Kokufu, Yudi Tu, Takashi Ichii, Toru Utsunomiya, Hiroyuki Sugimura, 國府 翔,屠 宇迪,一井 崇,宇都宮 徹,杉村 博之]
通讯作者:
國府 翔,屠 宇迪,一井 崇,宇都宮 徹,杉村 博之
Formation of 2D materials through a far-UV photochemical reaction at the interface between carbon and silicon oxide.
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批准号:18K18946
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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资助金额:$3.99万
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财政年份:2018
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负责人:Sugimura Hiroyuki
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依托单位:
VUV treatment through ultra-thin liquid film: Reduction and defect-recovery of graphene oxide
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批准号:16K14404
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.33万
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财政年份:2016
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负责人:Sugimura Hiroyuki
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依托单位:
海外基金