超臨界ナノプレーティング法によるナノ空間での金属成長機序の研究

超临界纳米镀覆方法研究纳米空间金属生长机理

基本信息

  • 批准号：
    23K21050
  • 负责人：
    曽根 正人
  • 金额：
    $ 2.16万
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份：
    2024
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2024-02-28 至 2025-03-31
  • 项目状态：
    未结题

项目摘要

项目成果

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  • 发表时间：
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  • 影响因子：
    0
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    曽根 正人

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  • 通讯作者：
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知道了