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クラスタービーム原子層エッチングと照射位置制御を用いた超高精度形状創成

クラスタービーム原子層エッチングと照射位置制御を用いた超高精度形状創成
使用簇束原子层蚀刻和照射位置控制进行超高精度形状创建
批准号:
23K22649
负责人:
豊田 紀章
金额:
$3.08万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2024
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2024-02-28 至 2025-03-31
关键词:

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Ultra-precise fabrication technology by location specific atomic layer etching with cluster beam
  • 批准号:
    22H01378
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $11.07万
  • 财政年份:
    2022
  • 负责人:
    豊田 紀章
  • 依托单位:
ガスクラスターイオンビームを用いた超精密3次元形状加工技術の開発
  • 批准号:
    17760584
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 资助金额:
    $2.18万
  • 财政年份:
    2005
  • 负责人:
    豊田 紀章
  • 依托单位: