ガスクラスターイオンビームを用いた超精密3次元形状加工技術の開発

开发利用气体团簇离子束的超精密3D形状加工技术

基本信息

  • 批准号:
    17760584
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.18万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2005
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2005 至 2006
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

平成18年度は、ガスクラスターイオンビーム装置を用い、小径クラスターイオンビームの照射を行った。パルスモーターをX,Y,Z,回転の4軸に使用した機械駆動ステージを開発し、外部のコンピュータにからの信号を元に、機械駆動ステージを高精度に制御した。小径ビームによる加工を行うため、まず0.1mmのアパーチャーを機械駆動ステージに設け、それを通過してくるガスクラスターイオン電流をXY方向に位置を変更しながら測定することにより、小径ビームのビーム形状の測定を行った。加速電圧30kVにおけるArクラスターイオンビームのビーム形状はほぼガウス分布であった。次に、直径0.51mm金ターゲットを用意し、接触式段差計により現在の形状の測定を行い、設計形状との差から、ガスクラスターイオンビームによって除去すべき厚さを求めた。先に求めたガスクラスターイオンビームのビーム形状と、加速電圧30kVにおける金のスパッタ率から、各照射位置でのArクラスターイオン照射量の計算を行った。この照射イオン量とファラデーカップで測定したイオン電流値から、各照射位置でのビーム滞在時間を求めることができる。このようなプロセスフローにより0.5mm径のターゲット上に蒸着された金薄膜の任意形状加工を行い、照射前の設計値との誤差200nmが、照射後には26nmとなり、大幅に設計値に近い加工をすることができた。ガスクラスターイオンビームは強力な表面平坦化効果も有しているため、高精度かつ微小な金型を作成するための技術として期待される。
Heisei 18 years ago, the use of equipment, small diameter equipment, irradiation 4-axis mechanical motion control system for X,Y,Z, rotation, signal generation, and high-precision control Small diameter machining process: 0.1mm in diameter, mechanical motion, setting, passing, current, XY direction, position change, measurement, shape measurement Acceleration voltage 30kV Next, the diameter of 0.51mm gold plate, contact type step difference meter, current shape measurement, design shape difference, design shape difference, removal thickness calculation First of all, calculate the shape, acceleration voltage of 30kV, and the exposure amount of each irradiation position. The amount of irradiation is determined by the current value, and the time lag of each irradiation position is determined. For example, the design error of the gold film before irradiation is 200nm, the design error of the gold film after irradiation is 26nm, and the design error of the gold film after irradiation is 200nm. The technology of surface flattening is expected to be strong and precise.

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Development of a new cluster size selector
开发新的簇大小选择器
Recent advances in R&D of gas cluster ion beam processes and equipment
R 的最新进展
Development of size-selected cluster ion irradiation system
尺寸选择簇离子辐照系统的开发
クラスターイオンビーム 基礎と応用 -次世代ナノ加エプロセス技術-
簇离子束基础与应用-下一代纳米加工技术-
  • DOI:
  • 发表时间:
    2006
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    I.Yamada;N.Toyoda;山田公 編著
  • 通讯作者:
    山田公 編著
Cluster size effects of gas cluster ion beams on surface modification
气体团簇离子束对表面改性的团簇尺寸效应
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

豊田 紀章其他文献

GCIB照射を用いたMoS2の表面改質とエッチング
使用 GCIB 辐射对 MoS2 进行表面改性和蚀刻
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    劔持 将之;豊田 紀章
  • 通讯作者:
    豊田 紀章
Planarization of amorphous carbon films on patterned substrates using gas cluster ion beams
使用气体团簇离子束对图案化基底上的非晶碳薄膜进行平坦化
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    豊田 紀章;長藤 圭介;谷 弘詞
  • 通讯作者:
    谷 弘詞
電子・イオンビーム ハンドブック第4版
电子/离子束手册第四版
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    松井 真二;高岡 義寛;臼井 博明;谷口 淳;八坂 行人;高橋 由夫;桑原 真;糟谷 圭吾;豊田 紀章;千葉敦也;百田 佐多生;岡山重夫;近藤行人;森下茂幸;村田 英一;安田雅昭;小寺 正敏 ;古澤 孝弘;園山 百代;揚村 寿英 他
  • 通讯作者:
    揚村 寿英 他
GCIB照射を用いたMoS2の表面改質とエッチング(Ⅱ)
使用GCIB辐照对MoS2进行表面改性和刻蚀(II)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    劔持 将之;豊田 紀章
  • 通讯作者:
    豊田 紀章
First-principles theoretical design of graphene-based sensor applications
石墨烯传感器应用的第一性原理理论设计
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    劔持 将之;豊田 紀章;Y. Fujimoto
  • 通讯作者:
    Y. Fujimoto

豊田 紀章的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('豊田 紀章', 18)}}的其他基金

クラスタービーム原子層エッチングと照射位置制御を用いた超高精度形状創成
使用簇束原子层蚀刻和照射位置控制进行超高精度形状创建
  • 批准号:
    23K22649
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Ultra-precise fabrication technology by location specific atomic layer etching with cluster beam
利用簇束进行位置特定原子层蚀刻的超精密制造技术
  • 批准号:
    22H01378
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

相似国自然基金

氧化镓超精密研磨过程中解理断裂机理及其调控方法研究
  • 批准号:
    51675457
  • 批准年份:
    2016
  • 资助金额:
    62.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目
超声椭圆振动协同化学作用辅助固结磨粒高效超精密研磨大直径硅片技术
  • 批准号:
    51065011
  • 批准年份:
    2010
  • 资助金额:
    26.0 万元
  • 项目类别:
    地区科学基金项目
弹性电化超精密研磨方法及设备的研究
  • 批准号:
    59375234
  • 批准年份:
    1993
  • 资助金额:
    6.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目
石材平板超精密研磨及其精度控制的研究
  • 批准号:
    59075192
  • 批准年份:
    1990
  • 资助金额:
    4.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目

相似海外基金

ガラスの超精密研磨過程におけるファインバブルによる化学研磨性の発現メカニズム
玻璃超精密抛光过程中细小气泡引起化学抛光性能的机理
  • 批准号:
    24K08097
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
超精密研磨による配向膜フリーな分子配向制御技術の開発
开发利用超精密研磨的无取向膜分子取向控制技术
  • 批准号:
    23K04885
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
電磁場同時印加による新型穴用精密研磨工具の開発研究
新型电磁场同步精密孔抛光工具的研发
  • 批准号:
    23H05184
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Scientists
金属配線付き基板を段差導入なく平坦にする純水を用いた持続可能な精密研磨技術の開発
开发可持续精密抛光技术,使用纯水平整带有金属布线的基板,无需引入步骤
  • 批准号:
    23K13234
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Viscoelastic Effect of Grinding Wheel Bonding Agent in Ultra-Precision Grinding of Next-Generation Semiconductor Materials
砂轮结合剂在下一代半导体材料超精密磨削中的粘弹性效应
  • 批准号:
    20K04193
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Development of crack suppression control technique in ultra-precision grinding of optical materials
光学材料超精密磨削裂纹抑制控制技术研究进展
  • 批准号:
    18H01353
  • 财政年份:
    2018
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Skill-free mirror grinding based on process simulation of precision grinding
基于精密磨削过程模拟的无技能镜面磨削
  • 批准号:
    24560144
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Study on the formation mechanism of ground surface and application to fluctuation-free ultra-precision grinding
磨削表面形成机理及其在无波动超精磨削中的应用研究
  • 批准号:
    24760096
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Control of grinding conditions and precision grinding of brittle materials.
磨削条件的控制和脆性材料的精密磨削。
  • 批准号:
    21760093
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Engineered Grinding Wheels - Precision grinding of optical glasses
工程砂轮 - 光学玻璃的精密磨削
  • 批准号:
    42225879
  • 财政年份:
    2007
  • 资助金额:
    $ 2.18万
  • 项目类别:
    Research Grants
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了