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金属バッファ層上層状窒化ホウ素を用いたGaN系デバイス構造成長とその機械的転写
使用金属缓冲层上的氮化硼生长基于 GaN 的器件结构及其机械转移
基本信息
- 批准号：23K23236
- 负责人：
- 金额：$ 4.66万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2024
- 资助国家：日本
- 起止时间：2024-02-28 至 2026-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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