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酸フッ化物薄膜の室温マルチフェロイック特性の開発

酸フッ化物薄膜の室温マルチフェロイック特性の開発
氟氧化物薄膜室温多铁性的研究进展
批准号：
23K26539
负责人：
近松 彰
金额：
$4.74万
依托单位：
Ochanomizu University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2024
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2024-02-28 至 2027-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-23K26539/
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Development of room temperature multiferroic properties of oxyfluoride thin films
  • 批准号：
    23H01846
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $12.31万
  • 财政年份：
    2023
  • 负责人：
    近松 彰
  • 依托单位：
    Ochanomizu University