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Development of room temperature multiferroic properties of oxyfluoride thin films
氟氧化物薄膜室温多铁性的研究进展
基本信息
- 批准号：23H01846
- 负责人：
- 金额：$ 12.31万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2023
- 资助国家：日本
- 起止时间：2023-04-01 至 2027-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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Ryota Takahashi
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長谷川 哲也
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