シリコンMOS構造を基盤とした電子流体エレクトロニクス創生
基于硅MOS结构的电子流体电子器件的创建
基本信息
- 批准号:24H00312
- 负责人:
- 金额:$ 29.79万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
- 财政年份:2024
- 资助国家:日本
- 起止时间:2024-04-01 至 2028-03-31
- 项目状态:未结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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- 影响因子:0
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- DOI:
- 发表时间:
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- 影响因子:0
- 作者:
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小野 行徳的其他文献
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