SiC表面・界面で生じる固有な現象の正しい理解とそれに基づくMOS界面特性の制御

正确理解SiC表面和界面上发生的独特现象,并基于该理解控制MOS界面特性

基本信息

  • 批准号:
    24H00308
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 31.53万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 财政年份:
    2024
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2024-04-01 至 2027-03-31
  • 项目状态:
    未结题

项目摘要

项目成果

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知道了