Study of ferroelectricity of rare-earth transition binary oxide material

稀土过渡二元氧化物材料的铁电性研究

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Shibayama Shigehisa其他文献

Impact of oxide/4H-SiC interface state density on field-effect mobility of counter-doped n-channel 4H-SiC MOSFETs
氧化物/4H-SiC 界面态密度对反掺杂 n 沟道 4H-SiC MOSFET 场效应迁移率的影响
  • DOI:
    10.35848/1347-4065/ac4555
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Doi Takuma;Shibayama Shigehisa;Sakashita Mitsuo;Taoka Noriyuki;Shimizu Mitsuaki;Nakatsuka Osamu
  • 通讯作者:
    Nakatsuka Osamu
Low-temperature formation of Mg/n-type 4H-SiC ohmic contacts with atomically flat interface by lowering of Schottky barrier height
通过降低肖特基势垒高度低温形成具有原子级平坦界面的 Mg/n 型 4H-SiC 欧姆接触
  • DOI:
    10.35848/1882-0786/ac407f
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.3
  • 作者:
    Doi Takuma;Shibayama Shigehisa;Sakashita Mitsuo;Kojima Kazutoshi;Shimizu Mitsuaki;Nakatsuka Osamu
  • 通讯作者:
    Nakatsuka Osamu
統治の原理としての幸福――18世紀ドイツ語圏における官房学の言説と実践――
作为治理原则的幸福:18世纪德语世界内阁研究的话语与实践
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Doi Takuma;Shibayama Shigehisa;Takeuchi Wakana;Sakashita Mitsuo;Taoka Noriyuki;Shimizu Mitsuaki;Nakatsuka Osamu;大林侑平
  • 通讯作者:
    大林侑平
Lattice-matched growth of high-Sn-content (x~0.1) Si1-xSnx layers on Si1-yGey buffers using molecular beam epitaxy
使用分子束外延在 Si1-yGey 缓冲区上晶格匹配生长高 Sn 含量 (x~0.1) Si1-xSnx 层
  • DOI:
    10.35848/1882-0786/acc3da
  • 发表时间:
    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.3
  • 作者:
    Fujimoto Kazuaki;Kurosawa Masashi;Shibayama Shigehisa;Sakashita Mitsuo;Nakatsuka Osamu
  • 通讯作者:
    Nakatsuka Osamu

Shibayama Shigehisa的其他文献

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