Oscillatory structure with a frequency of THz range using ferroelectric polarization and the enhancement by electric field
利用铁电极化和电场增强的太赫兹频率振荡结构
基本信息
- 批准号:16K14235
- 负责人:
- 金额:$ 2.33万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2018-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(62)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
(111)SrTiO3基板上への(Ba,La)SnO3薄膜の結晶成長 Fabrication of (Ba,La )SnO3 films on (111 )SrTiO3 substrate
(111)SrTiO3 基底上 (Ba,La)SnO3 薄膜的制备
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Ryo Kashimoto;Takeshi Yoshimura;Atsushi Ashida;Norifumi Fujimura;三浦 光平,樫本 涼,吉村 武,芦田 淳,藤村 紀文
- 通讯作者:三浦 光平,樫本 涼,吉村 武,芦田 淳,藤村 紀文
Low temperature formation of highly resistive ZnO films using nonequilibrium N2/O2 plasma generated near atmospheric pressure
利用近大气压产生的非平衡 N2/O2 等离子体低温形成高阻 ZnO 薄膜
- DOI:10.1016/j.tsf.2016.09.009
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:2.1
- 作者:Yukinori Nose;Takeshi Yoshimura;Atsushi Ashida;Tsuyoshi Uehara;Norifumi Fujimura
- 通讯作者:Norifumi Fujimura
The growth of ASnO3 (A = Sr, Ba) epitaxial films by rf magnetron sputtering and the electrical properties
射频磁控溅射ASnO3(A=Sr、Ba)外延薄膜的生长及其电性能
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:I.Kanagawa;T.Yoshimura;and N.Fujimura
- 通讯作者:and N.Fujimura
MoS2のキャリア制御を志向した分子接合界面の状態制御
以MoS2载流子控制为目标的分子键合界面状态控制
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Nakamura;K. Masuda;N. Yoshimura.;Kengo Kawamura;一宮 永,三浦 光平,吉村 武,芦田 淳, 藤村 紀文,桐谷 乃輔
- 通讯作者:一宮 永,三浦 光平,吉村 武,芦田 淳, 藤村 紀文,桐谷 乃輔
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Reduction of Off Current in ITO-Channel Thin Film Transistor with Ferroelectric(Bi,La)_4Ti_3O_<12> Gate Insurator
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- 影响因子:0
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- DOI:
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- 发表时间:
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- 影响因子:0
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- 影响因子:1.8
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- DOI:
- 发表时间:
2015 - 期刊:
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- 作者:
Yusuke Miyata;Kazuya Ueno;Takeshi Yoshimura;Atsushi Ashida;Norifumi Fujimura - 通讯作者:
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相似海外基金
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利用体敏光谱研究强相相关材料的电子结构
- 批准号:
03J52751 - 财政年份:2003
- 资助金额:
$ 2.33万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows