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Formation of high quality solid film by solution SiC material

Formation of high quality solid film by solution SiC material
溶液SiC材料形成高质量固体薄膜
批准号：
16K14401
负责人：
MASUDA TAKASHI
金额：
$1.91万
依托单位：
Japan Advanced Institute of Science and Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2018-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-16K14401/
关键词：
プリンテッドエレクトロニクス半導体溶液法ポリカルボシランCPS液体シリコンシリコンカーバイド溶液複合材料・物性

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A novel intervention of phase II cardiac rehabilitation for patients with multiple complications to advance their social reintegration
  • 批准号：
    23500612
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $3.24万
  • 财政年份：
    2011
  • 负责人：
    MASUDA TAKASHI
  • 依托单位：
    Kitasato University
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