Dense-structured Mg-O films formation by X-ray radiation and its application to surface modification

X射线辐射形成致密结构Mg-O薄膜及其在表面改性中的应用

• 批准号: 24656446
• 负责人: KONDOH Katsuyoshi
• 金额: $ 1.75万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2014-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-24656446/
• 关键词: 表面・界面制御; Ｘ線照射; 電子励起場; ラジカル種; 酸化皮膜; 表面電位; 塩水浸漬試験

Mg is easy to corrode because of its low standard electrode potential. In this study, a new method of corrosion protection using the surface potential change of pure Mg was investigated. The surface potential of pure Mg was changed by electron excitation. The correlation between surface potential variation and galvanic corrosion behavior was investigated by Scanning Kelvin Probe Force Microscopy. The electron excited area by X-ray irradiation analyzed by SEM-EDS showed lower surface potential than that of the as-polished area. The value of VSPC increased with the increase amounts of the electron irradiation. VSPC can be controlled by amounts of the electron irradiation. Salt water immersion test was conducted in order to investigate the effect of VSPC on corrosion phenomena. It reveals that electron excited area showed excellent corrosion resistance. It is concluded that X-ray irradiation excitation possibly improves corrosion resistance of pure Mg.

镁因标准电极电位低而易腐蚀。在这项研究中，研究了一种利用纯镁表面电位变化的腐蚀防护新方法。纯镁的表面电势通过电子激发而改变。通过扫描开尔文探针力显微镜研究了表面电位变化与电偶腐蚀行为之间的相关性。通过 SEM-EDS 分析，X 射线照射的电子激发区域显示出比抛光区域更低的表面电势。 VSPC值随着电子辐照量的增加而增加。 VSPC可以通过电子照射量来控制。为了研究VSPC对腐蚀现象的影响，进行了盐水浸泡试验。结果表明，电子激发区表现出优异的耐腐蚀性。结论是X射线辐照激发可能提高纯镁的耐腐蚀性能。

项目成果

X線照射による励起場形成を利用した純マグネシウムの表面改質現象

利用X射线照射形成激发场的纯镁表面改性现象

• 发表时间: 2012
• 期刊: スマートプロセス学会誌
• 作者: Keisuke Funatsu;Hiroyuki Fukuda;Rei Takei;Junko Umeda;Katsuyoshi Kondoh;船津恵介,梅田純子,高橋誠,近藤勝義
• 通讯作者: 船津恵介,梅田純子,高橋誠,近藤勝義

Mg合金中の微視的異材界面における表面電位差が初期ガルバニック腐食現象へ及ぼす影響

镁合金微观异种金属界面表面电位差对初始电偶腐蚀现象的影响

• 发表时间: 2012
• 期刊: 日本機械学会論文集(A編)
• 作者: Keisuke Funatsu;Hiroyuki Fukuda;Rei Takei;Junko Umeda;Katsuyoshi Kondoh;船津恵介,梅田純子,高橋誠,近藤勝義;船津恵介,竹井怜,梅田純子,近藤勝義
• 通讯作者: 船津恵介,竹井怜,梅田純子,近藤勝義

Potential difference at interface between second phases and metal matrix measured by SKPFM

SKPFM 测量第二相与金属基体界面电位差

• 发表时间: 2012
• 作者: Katsuyoshi Kondoh;Keisuke Funatsu;Junko Umeda;Hisashi Imai
• 通讯作者: Hisashi Imai

X線照射による表面改質を施した純マグネシウムの腐食現象

X射线辐照改性纯镁表面的腐蚀现象

• 发表时间: 2012
• 作者: Katsuyoshi Kondoh;Keisuke Funatsu;Junko Umeda;Hisashi Imai;船津恵介,梅田純子,近藤勝義
• 通讯作者: 船津恵介,梅田純子,近藤勝義

Surface Potential Controlled by Al Additive at Interface between Mg Matrix and CNTs

镁基体和碳纳米管界面处铝添加剂控制的表面电势

• 发表时间: 2012
• 作者: Keisuke Funatsu;Hiroyuki Fukuda;Rei Takei;Junko Umeda;Katsuyoshi Kondoh
• 通讯作者: Katsuyoshi Kondoh