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Spin injection into Si through an asymmetrical potential barrier
通过不对称势垒自旋注入硅
基本信息
- 批准号：26600080
- 负责人：
- 金额：$ 2.58万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份：2014
- 资助国家：日本
- 起止时间：2014-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（4）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Si(100)上のMgO超薄膜における表面ポテンシャルエネルギーのアニールによる変化
Si(100)上超薄MgO薄膜退火引起的表面势能变化
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：片木世維;平松和弥;寺西亮;山田和広;金子賢治;鈴木淑男
- 通讯作者：鈴木淑男
Effects of asymmetrical potential barriers on spin injection into nonmagnet
不对称势垒对自旋注入非磁体的影响
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Ryo Teranishi;Kenya Otaguro;Hiroshi Horita;Kazuhiro Yamada;Kenji Kaneko;Teruo Izumi;and Satoshi Awaji;石野誠一郎，田渕豊，石川豊史，山崎歴舟，宇佐見康二，中村泰信;Toshio Suzuki
- 通讯作者：Toshio Suzuki
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- 资助金额：
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19550159 - 财政年份：2007
- 资助金额：
$ 2.58万 - 项目类别：
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幾何学的トンネル現象を用いた量子状態制御
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- 批准号：
17656111 - 财政年份：2005
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$ 2.58万 - 项目类别：
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03J10352 - 财政年份：2003
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$ 2.58万 - 项目类别：
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- 批准号：
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- 资助金额：
$ 2.58万 - 项目类别：
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12875058 - 财政年份：2000
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- 批准号：
00J05922 - 财政年份：2000
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$ 2.58万 - 项目类别：
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