Development of Local Semiconductor Crystalline Quality Estimation Method by Electron Back Scatter Diffraction
Development of Local Semiconductor Crystalline Quality Estimation Method by Electron Back Scatter Diffraction
电子背散射衍射局部半导体晶体质量评估方法的发展
批准号：
16K13675
负责人：
Hanafusa Hiroaki
金额：
$2.41万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
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会议论文
菊池線パターン解析による結晶欠陥評価の研究
基于菊池线图分析的晶体缺陷评价研究
基于菊池线图分析的晶体缺陷评价研究
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[沖 昴志, 花房 宏明, 東 清一郎]
通讯作者：
東 清一郎
菊池線パターン解析によるSi結晶内の欠陥量評価法の開発
开发利用菊池线图案分析评价硅晶体缺陷量的方法
开发利用菊池线图案分析评价硅晶体缺陷量的方法
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[花房 宏明]
通讯作者：
花房 宏明
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