Fabrication of single-electron transistor by helium ion microscope
Fabrication of single-electron transistor by helium ion microscope
批准号:
16K13732
负责人:
Kobayashi Takane
金额:
$2.33万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2019-03-31
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会议论文
Measurement of the ampacity of a nanowire fabricated by electron beam-induced deposition
通过电子束诱导沉积制造的纳米线的载流量测量
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[小林 峰]
通讯作者:
小林 峰
ユヴァスキュラ大学(フィンランド)
于韦斯屈莱大学(芬兰)
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[小林 峰, 小林 峰]
通讯作者:
小林 峰