エピゲノム修飾因子NSD1変異によるDNAメチル化と遺伝子発現異常メカニズム解明

阐明表观基因组修饰剂NSD1突变引起的DNA甲基化和基因表达异常的机制

• 批准号: 22K15946
• 负责人: 渡邊 英孝
• 金额: $ 3万
• 依托单位: Saga University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
• 财政年份: 2022
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2022-04-01 至 2025-03-31
• 项目状态: 未结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-22K15946/
• 关键词: ソトス症候群; インプリントDMRのDNAメチル化異常; IGF2-DMR0; NSD1変異; DNAメチル化

エピジェネティック制御機序が原因となる先天性異常症であり指定難病のソトス症候群（SS）は原因遺伝子がヒストンメチル化酵素をコードするNSD1遺伝子であることは明らかになっているが、詳細なメカニズムは未解明である。申請者は、これまでの研究で、SS発症の原因がNSD1の変異によりインプリントDMRのDNAメチル化異常を惹起する可能性を見いだした。本研究課題ではSS発症の原因を検証する為、SS患者のNSD1遺伝子についてメチル化解析を行い、インプリントDMRメチル化異常とインプリント遺伝子発現との関連性を明らかにする。エピジェネティック制御機序が原因となる、先天性異常症候群の発症メカニズムを解明することで、遺伝性疾患の治療法の糸口を見つけることを目的とする独創的な研究である。現在まで、なぜSSが過成長を示すか、のメカニズムは分かってはいない。申請者は、SSに認められるDMRのメチル化異常が特定遺伝子の過剰発現を引き起こし、その過成長の表現型を説明できると考えた。本研究では、実際の患者検体のみならず、細胞レベルやマウスなどで再現が可能であるかを検証する。本研究課題はNSD１によるインプリントDMRの、DNAメチル化の制御機構を明らかにし、SS発症メカニズムの解明を目指すことを目的とした。SS発症のメカニズムを解明し、表現型を、分子メカニズムの観点から説明可能にしたい、と考え下記の①～④の解明を目標にした。① SSにおけるインプリントDMRのDNAメチル化異常とNSD1変異部位との関連性。② SS原因遺伝子NSD1によるインプリントDMRのDNAメチル化制御メカニズム。③ IGF2-DMR0を制御しているタンパク質の同定。④ 患者の症状を説明できるモデルマウスの樹立と解析。昨年度からおもに学会参加や論文検索による情報収集と、必要物品やの調達に時間をさき、①の内容から取り組んでいる。

The cause of the disease