極低温環境下におけるSi-MOS界面散乱体の起源解明に向けた定量化手法の確立
極低温環境下におけるSi-MOS界面散乱体の起源解明に向けた定量化手法の確立
批准号:
23K13379
负责人:
岡 博史
金额:
$3.0万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份:
2023
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2023-04-01 至 2025-03-31
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会议论文
高精度歪み制御による直接遷移型IV族混晶半導体の創出と発光特性評価
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批准号:18H05912
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项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
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资助金额:$1.91万
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财政年份:2018
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负责人:岡 博史
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依托单位:
光電子集積回路に向けた高移動度GeSn-on-Insulatorトランジスタ技術
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批准号:16J00819
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.83万
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财政年份:2016
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负责人:岡 博史
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依托单位:
ダーモスコピー画像を用いた悪性黒色腫と色素細胞母斑のサーバ上自動判別システム
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批准号:16790658
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.24万
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财政年份:2004
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负责人:岡 博史
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依托单位: