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極低温環境下におけるSi-MOS界面散乱体の起源解明に向けた定量化手法の確立

極低温環境下におけるSi-MOS界面散乱体の起源解明に向けた定量化手法の確立
建立定量方法来阐明低温环境中 Si-MOS 界面散射体的起源
批准号:
23K13379
负责人:
岡 博史
金额:
$3.0万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份:
2023
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2023-04-01 至 2025-03-31

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高精度歪み制御による直接遷移型IV族混晶半導体の創出と発光特性評価
光電子集積回路に向けた高移動度GeSn-on-Insulatorトランジスタ技術
  • 批准号:
    16J00819
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $0.83万
  • 财政年份:
    2016
  • 负责人:
    岡 博史
  • 依托单位:
ダーモスコピー画像を用いた悪性黒色腫と色素細胞母斑のサーバ上自動判別システム
  • 批准号:
    16790658
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 资助金额:
    $2.24万
  • 财政年份:
    2004
  • 负责人:
    岡 博史
  • 依托单位: