フッ化ジアミンシリケートにおける歯質強化機構の解明

点击翻译按钮获取中文摘要

本研究は新しいフッ化剤としてのフッ化ジアミンシリケート{SiF;(NH_4)_2SiF_6}における作用機序を解明することを目的とし、SiFの構成成分であるケイ素の作用を、ハイドロキシアパタイト{HAP;Ca_<10>(PO_4)_6OH_2}粉末をNaFにて処理するというモデル実験下で検討したものである。HAPをケイ素存在下にてフッ素処理し、フルオロアパタイト{FAP;Ca_<10>(PO_4)_6F_2}が生成される経路は(1)FAPの生成が直接促進される系、(1)フッ化カルシウム{CaF_2}とケイ素が反応し、SiFP_6^<2->を再生する系、(3)CaF_2がリン酸イオン存在下でFAPへ相変化する際、ケイ素がその生成反応を促進する系、が考えられる。研究計画に基づき(2)の経路を検討するため、CaF_2とNa_2SiO_3とをpHstatを用いH_2SO_4を滴定し、一定条件下で反応させ、処理後の粉末を粉末X線回折にて定性した。しかし、経路が進行した場合に検出されるCaSiF_6は全く検出されず、全量がCaSO_4となった。従って、(2)の経路は存在しないことがわかった。一方((3))、ケイ素はリン酸イオンとCaF_2が反応してFAPを形成する反応を促進することがわかった。しかし、その程度は少なかった。これらの事からケイ素のFAP形成促進における主要な作用機序は、FAP生成の直接的な促進がその中心を占めることが明らかになった。