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強磁場とレーザー光子場を用いた分子集団系の形態・機能精密制御

利用强磁场和激光光子场精确控制分子集体系统的形态和功能

基本信息

批准号：
09740521
负责人：
坪井泰之
金额：
$ 1.28万
依托单位：
Kyoto Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1997
资助国家：
日本
起止时间：
1997 至 1998
项目状态：
已结题

项目摘要

1 レーザーアブレーションによる光電導性高分子薄膜の作製代表的な光電導性高分子であるポリ(N-ビニルカルバゾール)(以下PVCz)を対象に、レーザーアブレーション堆積法を適用し、その薄膜形成に成功した。真空チャンバー内でPVCzターゲットに紫外レーザーパルスを照射し、対置した基板にアブレーション噴出物を堆積させ、薄膜を作製した。レーザー波長(248、308、351nm)とその光強度(70、300、450mJ/cm^2)を変化させ、薄膜の化学構造を詳細に検討した。その結果、化学的損傷の少ない良質の薄膜を形成する最適の照射条件を見い出した(351nm、300mJ/cm^2)。薄膜形成機構についても詳細に検討した。アブレーションにより、PVCzが一旦ビニルカルバゾールモノマーに解重合し、基板上で再びPVCzに重合することを明らかにした。2 レーザーアブレーションによる蛋白質超薄膜の作製代表的な単純蛋白質であるシルクフィブロインに上述のアブレーション堆積法を適用した。シルクフィブロインは比較的単純なアミノ酸から成り、優れた生体適合性、酵素固定化能力を有し機能性材料として大きく期待されているタンパク質である。反面、良溶媒に極めて乏しく、完全ドライプロセスである本手法による薄膜化の意義は大きい。上記PVCzの場合と同様に薄膜作製を試みた。351、308nmで作製した薄膜の赤外スペクトルはターゲットフィブロインのものと極めてよく一致し、フィブロインの薄膜形成が確認された。しかしながら、ターゲットに用いたフィブロインはβシート構造を有するのに対し、薄膜の2次構造はランダムコイル型であった。βシート型薄膜の作製を現在目指している。筆者等が最近提案した光増感法や、堆積基板の加熱が有効であると考えている。

1. Photoconductive polymer film production representative of the photoconductive polymer film N-virile (PVCz) is suitable for the image, photoconductive polymer film deposition method, and successful film formation. UV radiation in the vacuum chamber, deposition of UV spray on the substrate, and film deposition The wavelength (248, 308, 351nm) and the optical intensity (70, 300, 450mJ/cm^2) of the film are discussed in detail. As a result, the optimum irradiation conditions (351nm, 300mJ/cm^2) for the formation of good quality films with less chemical damage were found. The thin film forming mechanism is examined in detail. When the substrate is stacked, PVCz is stacked on the substrate. 2. The method for preparing protein ultra-thin film is applicable to pure protein. Compared with other functional materials, such as pure acid, excellent biological suitability, enzyme immobilization ability, etc., it is expected that the quality of the materials will be improved. On the contrary, good solvent is extremely poor, completely free of charge, and the significance of thin film in this method is great. Remember that PVCz is the same as thin film manufacturing. 351 nm, 308nm, the formation of thin films is confirmed. The second order structure of thin film is the first order structure of thin film. The manufacture of β-type thin films is now under consideration. The author has recently proposed that the heating of stacked substrates be carried out by optical induction method.