高密度再石灰化液によるエナメル質の光化学反応

高密度再矿化液对牙釉质的光化学反应

• 批准号: 09771858
• 负责人: 国分 美和子
• 金额: $ 1.09万
• 依托单位: Ohu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1997
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1997 至 1998
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-09771858/
• 关键词: 高密度再石灰化液; 紫外域レーザー; エナメル質; 光化学反応; エキシマレーザー光照射; 高濃度再石灰化液; 再石灰化反応

エナメル質の再石灰化による修復を目的として,紫外域レーザー光の照射下でCaとP濃度を通法の約8〜12倍程高めた高密度再石灰化液を作用させ,再石灰化反応の促進と同反応領域の拡大に及ぼす光化学的な影響を解析した。材料はヒトの抜去大臼歯(永久歯)の頬・舌側面表層の約200μmを粗研磨後,#600エミリーペーパーとPOLISHING CLOTH(研磨剤;0.05μm ALUMINA)で磨き,一対のエナメル質片を作製した。これを0.1M乳酸緩衝液(含0.3mM-HAp,pH4.5)で人工脱灰を行って,一方を同時作用群(再石灰化液とレーザー光照射),他方を対照群(再石灰化液のみ)とした。再石灰化液のCaとPの濃度は,通法の3.0mMと1.8mMに対し,I液(36mMと21.6mM),II液(30mMと18mM),III液(24mMと15.8mM)とし,さらに5ppmF^-を加えたものとも比較した。紫外域レーザーは,QスイッチYAGレーザーの第4高調波から得られる266nmの波長を用い,その照射条件を70mJ/cm^2,2000shotsとした。エナメル質片表層の顕微鏡像およびSEM像は,同時作用群で通法の再石灰化液を除くI〜III液に再石灰化反応によると考えられる堆積物が観察された。なかでも,II液のF^-なしの場合で最も顕著な堆積物が認められ,以下II液のF^-あり,I液のF^-あり,I液のF^-なし,III液のF^-なし,III液のF^-ありの順であった。また,堆積物を微小部X-ray回折で同定したところ,Hydroxyapatite[Ca_<10>(PO_4)_6(OH)_2]とCalcium Phosphate Hydrate[Ca_3(PO_4)_2・xH_2O]の結晶を認めた。さらに,同時作用群と対照群を人工唾液に浸漬(48hr.)後,それぞれの耐酸性を測定したところI〜III液の同時作用群が対照群に比較して顕著に向上した。また,高密度再石灰化液による耐酸性向上は,通法のそれに比較しいずれも良好な結果を示した。

The purpose of this study is to study the effect of high-density re-liming solution on the effect of high-density re-liming solution under UV irradiation. The effect of high-density re-liming solution is about 8'12 times higher than that of ultraviolet light, and the effect of high-density re-limed solution is about 8'12 times higher than that of ultraviolet light, and the reverse liming promotes the same field and photochemistry. After rough grinding of the surface surface of the material, which is about 200 μ m, the material is ground to the surface of the abutment (permanent), and then ground to the surface of the POLISHING CLOTH (ground metal; 0.05 μ m ALUMINA). 0.1m lactic acid solution (containing 0.3mm color HApp pH4.5) was used to remove ash manually. One side acted in the same time group (re-calcinated solution), and the other group (re-limed solution). Then the liming solution is Ca, the general method is 3.0mM 1.8mM, liquid I (36mm, 21.6 mM), II (30mm, 18 mM), III (24mMb, 15.8mF), 5ppmF ^-5 ppmF ^-5 ppmF^. In the ultraviolet region, the temperature of the fourth wave is higher than that of the YAG, and the wavelength of the fourth wave is sensitive to the 266nm wavelength. The exposure condition is 70mJ/ cm ^ 2, 2000shots temperature. The micrograph is used to measure the SEM image, and at the same time, the group method is used to remove the I~III liquid and then lime the liquid to reverse the liming process. The following II liquids F^-II liquids, I-liquids F^-liquids, III liquids F^-rolls, III liquids F^-liquids. The X-ray analysis of the micro part of the heap active material is identical to that of the hydroxyapatite [Ca _ & lt;10> (PO_4) _ 6 (OH) _ 2] Calcium Phosphate Hydrate [Ca _ 3 (PO_4) _ 2 ·xH _ 2O]. At the same time, artificial saliva immersion (48hr.) After that, the acid resistance test was used to determine the acid resistance of the I~III liquid. At the same time, the effect of the group was compared with that of the group. The acid resistance of the high-density liming solution is good, and the results show that the acid resistance of the high-density liming solution is good.

项目成果

国分 美和子: "高濃度再石灰化液のエナメル質作用時におけるエキシマレーザー光照射の影響" 口腔衛生学会雑誌. 47・4. 636-637 (1997)

Miwako Kokubu：“准分子激光照射对牙釉质高浓度再矿化液作用的影响”口腔卫生学会杂志 47・4（1997 年）。

国分 美和子: "高密度再石灰化液のエナメル質作用時におけるエキシマレーザー光照射" 口腔衛生学会雑誌. 47・4. 636-637 (1997)

Miwako Kokubu：“高密度再矿化液作用于牙釉质期间的准分子激光照射”口腔卫生学会杂志 47・4（1997）。

Kenji Kusunoki: "The Effect of Phosphate Anion Fluoricle Uptake of Enamels Irradiation with Excimer Laser" Dentistry in Japan. 35(in print). (1999)

Kenji Kusunoki：“准分子激光辐照牙釉质中磷酸盐阴离子荧光素摄取的影响”日本牙科。