金属シリサイドクラスターの微視的合金化過程

金属硅化物团簇的微观合金化过程

• 批准号: 12740326
• 负责人: 實方 真臣
• 金额: $ 1.41万
• 依托单位: Keio University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 2000
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2000 至 2001
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-12740326/
• 关键词: シリサイド; クラスター; 合金化過程; 電子構造; 幾何構造; 光電子分光法; レーザー蒸発法; 負イオン

金属シリサイドの微視的合金化過程を理解するために、2成分系レーザー蒸発法で金属シリサイド正/負イオンを生成し、生成したクラスターに対して光電子分光実験及び吸着反応実験を行なった.今年度の研究成果として以下のような新たな知見を得ることができた.金属シリサイド化合物の中でも半導体デバイスの金属-半導体接合材料としてタングステンシリサイドが広く使われることもあり、W-Si系に着目して研究を行なった.(1)微視的合金化過程:タングステン原子がシリコン網へ入ることが可能となる最小のシリコンユニットの大きさが、シリコン10原子程度のシリコン網であることを実験的に明らかにした.微視的合金化過程の初期描像を捕らえることに初めて成功したと考えられる.(2)バンドギャップ工学:MSi_n-(M=W,Mo,Cr)の光電子スペクトルを測定した.クラスターサイズの増加に伴うバンドギャップの発展を捕らえることにより、金属シリサイドクラスターが金属-半導体接合材料として多様な整合性を持った材料となる新たな可能性を提示できた.一方、シリサイド化合物WSi_2のレーザー蒸発でクラスターを生成した場合、負イオンではW原子を一つ含むWSi_n^-のみ生成するのに対し、正イオンでは多数のW原子を含むW_mSi_n^+が生成する.正負イオンでこれ程生成種が異なる系は珍しく、微視的に合金化を眺めた時に「シリコン網へ金属原子が置換型で入り込むのか、挿入型なのか」、という新たな問題が呈示された.金属原子の原子半径及びイオン半径がクラスター内合金化構造にどのように影響するのか、という観点で今後の研究を展開する.

Weishi app for understanding the alloying process of metals, two-component system evaporation method for the formation of positive/negative metals, formation of positive/negative metals, photoelectron spectroscopy and adsorption reaction. This year's research results are as follows: The metal-semiconductor junction materials in the semiconductor devices of metal semiconductor compounds and the W-Si system were studied. (1)Alloying process of Weishi app: the smallest possible atom is the largest atom, the smallest atom is the largest atom, and the smallest atom is the largest atom. Weishi app's early phase image of alloying process was studied. (2)Photoelectron spectra of MSi_n-(M=W,Mo,Cr) were measured. The development of metal-semiconductor bonding materials and the diversity of integrated materials are suggested. In the case of WSi_2, the formation of WSi_n_n. Negative numbers are generated in different ways, such as rare earth, Weishi app, alloying, etc. The atomic radius and radius of metal atoms are affected by alloying structure in the structure of metal atoms.

项目成果

Masaomi Sanekata: "Physical and chemical interface effects on Mie plasmon absorption of sodium nanoclusters passivated with CH4-nCln(n=1-4)molecules"Chemical Physics Letters. 323[1-2]. 98-104 (2000)

Masaomi Sanekata：“物理和化学界面对用 CH4-nCln(n=1-4) 分子钝化的钠纳米簇的米氏等离子体吸收的影响”《化学物理快报》。

Masaomi Sanekata: "Electronic and geometric struclures of metal-silicide clusters"Transactions of the Materials Research Society of Japan. 25[4]. 1003-1006 (2000)

Masaomi Sanekata：“金属硅化物簇的电子和几何结构”日本材料研究会汇刊。