溶融塩電析・合金化プロセスを利用したMg-Ni-X系水素吸蔵合金の作製と評価

熔盐电沉积合金化工艺制备Mg-Ni-X储氢合金及性能评价

• 批准号: 12750649
• 负责人: 黒田 健介
• 金额: $ 1.28万
• 依托单位: Nagoya University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 2000
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2000 至 2001
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-12750649/
• 关键词: 溶融塩電解; 水素吸蔵合金; Mg_2Ni; Co; LiCl-KCl

溶融塩電解法を用いたMg_2Ni_<l-x>Co_x合金の作製に先立ち,全反応物質が固体である723Kならびに融体が関与する823Kにて電析・合金化を行った.いずれも単相の水素吸蔵合金Mg_2Niからなる合金膜が生成したものの,723Kでは反応生成速度が遅く,10μmを超える厚膜の合金膜の生成には至らなかった.一方,高温電析では,電流効率は低くなるものの厚膜の合金膜が生成した.さらにMg-Ni系水素吸蔵合金Mg_2NiにCoを添加し3成分系合金を製造した.Mg_2NiへのCo添加方法として,溶融塩中からNi基板上へのMgとCoの共析法を用いた.LiCl-KCl-MgCl_2-CoCl_2溶融塩中において定電位電解によってNi基板上にMg-Coの共析を行った.電解条件として,温度(723K,823K),Mgイオン源濃度(0.01-10mol%),Coイオン源濃度(0.01-0.5mol%),電解電位(-2.9--3.1V vs. Cl_2/Cl^-)をそれぞれ変化させ合金膜を作製した.その結果,30分の電析で,最大で10μm程度の膜厚のCo含有MgNi_2がNi基板表面に生成することがわかった.さらにEDX分析によってCoの組成が〜0.05(このときMg_2Ni_<0.95>Co_<0.05>)であった.このように作製したMg-Ni-Co水素吸蔵合金を室温アルカリ水溶液中で水素吸蔵・放出試験を行ったところ,Co無添加(Mg_2Ni)の場合に比べて,Coを添加した場合には,水素吸蔵放出特性に改善が認められた.

In the solution of melting process, Mg_2Ni_<l-x>Co_x alloy was used as the first step, and the solid phase was used as the starting point. The melting temperature was 723K, the melting temperature was 723K, and the temperature was 823K. The formation rate of water-absorbing alloy Mg_2Ni film is much higher than that of water-absorbing alloy film, 723K phase phase and 10 μ m thick film alloy film. On the one hand, high temperature electroanalysis, low current rate, high temperature, low current rate, low current rate, high temperature, low current rate, high temperature, low current rate, low current rate, high temperature, low current rate, low current rate, high temperature, high temperature The Mg-Ni water-absorbing alloy Mg_2Ni Co was added to the alloy of 3 components. The addition method of Mg_2Ni Co was proved, and the eutectoid method of Mg eutectoid on the melting Ni substrate was used. LiCl-KCl-MgCl_2-CoCl_2 solution was used to determine the potential of the solution, and the Mg-Co eutectoid was applied on the Ni substrate. The electrolysis conditions are as follows: temperature (723K, 823K), temperature (723K, 823K), Mg temperature (0.01mol%-10mol%), Co temperature (0.01mol%-0.5mol%), electrolysis potential (- 2.9kV vs. Cl_2/ Cl^ -). The results show that the maximum thickness of the film is 10 μ m at 30 minutes. Co contains MgNi_2 on the surface of the Ni substrate. The EDX analysis shows that the Co is composed of two or more Mg_2Ni_<0.95>Co_<0.05> components. The water absorption properties of Mg-Ni-Co water absorption alloy at room temperature are improved by adding (Mg_2Ni), Co, and water absorption properties in aqueous solution.