PLD法によるNdFeB厚膜磁石の低温プロセス作製と医療用マイクロマシンへの応用
PLD法によるNdFeB厚膜磁石の低温プロセス作製と医療用マイクロマシンへの応用
批准号:
15656084
负责人:
中野 正基
金额:
$2.18万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2003
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2003 至 2004
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英文摘要
本研究は、レーザアブレーション法を用いたNd-Fe-B系磁石厚膜の作製において、例えば「プラズマ」のような熱エネルギー以外のエネルギーを利用した「低温プロセス」による試料の作製を、検討した。本研究を進めるに当たり、具体的には以下の2点を主に考慮した。(1)酸素含有量・チェンバ内壁からのガス流失を極力抑制し、活性の高いNd元素の酸化を抑制するため、「200mm径の小型チェンバ」を設計作製するとともに、「超高純度のArガス雰囲気中」でプラズマを誘起し、そのプラズマ内をNd-Fe-B系磁石膜の構成粒子を通過させることにより、低温プロセスでのNd-Fe-B系磁石膜の結晶化ならびに磁気特性の向上について検討した。(2)更に上述したNd-Fe-B厚膜磁石の「磁気特性」・「微細構造」などを以下の装置を用い評価・観察した。@磁気特性の評価(本研究室既存:VSM装置)@結晶構造の測定(本学既存:X線回折装置)@微細構造の観察(本学既存:SEM,TEM)@組成分析(本学既存:ESCA,他機関:ICP)現在のところ、プラズマを利用した上記の作製において、優れた硬磁気特性の発現には至っていない。この原因として、ターゲットから飛び出した原子・イオンなどの粒子が、光励起とともに熱的にも励起されており、チェンバ内の微量な酸素原子と容易に結びつく(酸化する)ためと考えられる。しかしながら、その一方で、一部の手法において、熱処理を施すことなく結晶化する試料も観測され、今後、基板上への成膜室と低温プロセスを実現する部屋の分割化などを鑑みて、本研究の更なる発展を試みる予定である。
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M.Nakano, R.Katoh, H.Fukunaga, S.Tutumi, F.Yamashita: "Advancement in NdFeB Thick Film Magnets Fabricated with YAG Laser Ablation System"J.Magn.Magn.Mater.. (in press). (2004)
M.Nakano、R.Katoh、H.Fukunaga、S.Tutumi、F.Yamashita:“用 YAG 激光烧蚀系统制造的 NdFeB 厚膜磁体的进展”J.Magn.Magn.Mater..(印刷中)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
M.Nakano, R.Katoh, H.Fukunaga, S.Tutumi, F.Yamashita: "Fabrication of Nb-Fe-B thick film magnets by high speed PLD method"IEEE Trans.Mgn.. Vol.39 No.5. 2863-2865 (2003)
M.Nakano、R.Katoh、H.Fukunaga、S.Tutumi、F.Yamashita:“通过高速 PLD 方法制造 Nb-Fe-B 厚膜磁体”IEEE Trans.Mgn.. Vol.39 No.5。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
PLD法により作製したNd-Fe-B厚膜磁石の磁気特性とミリサイズモータへの応用
PLD法制备Nd-Fe-B厚膜磁体的磁性能及其在毫米级电机中的应用
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
電気学会論文誌A 124巻・10号
影响因子:
--
作者:
[中野正基, 加藤龍太郎, 福永博俊, 山下文敏]
通讯作者:
山下文敏
APPLICATION OF PLD-MADE Nd-Fe-B FILM MAGNETS
PLD制Nd-Fe-B薄膜磁体的应用
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Proceedings of the 18^<th> International Workshop on High Performance Magnets and their applications
影响因子:
--
作者:
[M.Nakano, S.Sato, R.Kato, H.Fukunaga, F.Yamashita, S.Hoefinger, J.Fidler]
通讯作者:
J.Fidler
超高速成膜法を利用した高エネルギー積・サブミリ厚磁石膜の開発と応用
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批准号:16686022
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
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资助金额:$13.98万
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财政年份:2004
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负责人:中野 正基
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依托单位:
低温プロセスPLD法を用いた超小型「EMI対策」ノイズフィルタ用フェライト薄膜
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批准号:13750281
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$1.54万
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财政年份:2001
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负责人:中野 正基
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依托单位: