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反強磁性-強磁性積層ナノグラニュラー磁性体薄膜の合成と評価

反強磁性-強磁性積層ナノグラニュラー磁性体薄膜の合成と評価
反铁磁-铁磁堆叠纳米颗粒磁性薄膜的合成与评价
批准号:
16656216
负责人:
藤本 正之
金额:
$1.79万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2005
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2005 至 2006

项目摘要

项目成果

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ナノグラニュラー磁性体薄膜は、非磁性体絶縁体によって分離された各ナノ交互に積層化することにより、面内にはランダム、膜厚方向には制御されて近接磁性粒子と相互作用することを既に我々はその高周波磁気特性とHRTEMによるナノ構造解析により明らかにしている。そこで磁性粒子層を強磁性体Fe100%とFe-Mn(Mn30%)の反強磁性体との2層を絶縁層と交互に積層化することにより、反強磁性-強磁性相互作用を利用した異方性磁界の制御を試みた。Fe強磁性体ナノグラニュラー層とこれに絶縁層を挟んで交互に積層されたFe-Mnナノグラニュラー層のFe-MnのMnの量を少しずつ増やしていくと、Mn量が0%の時にμ=2000、Hk=11.1であったものが、μが次第に減少するかわりに、Hkが増大していき、反強磁性領域のMn量30%の時には、μ=30、Hk=241.3となり、Feナノグラニュラー強磁性層とFe-Mn反強磁性層とが磁気カップリングをおこしていることが推定された。このようにFe-Mnナノグラニュラー層のMn量を制御することによって異方性磁界の制御が可能であることが判明した。HRTEMによって面内方向のナノグラニュラー磁性層の分離状態、絶縁層膜厚などのナノ構造の最終確認を行った後にAppl.Phys.Lett.に投稿する予定である。
期刊论文(6)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Effect of Back-Etching on Residual Stress in Lead Titanate Thin Films on Si Wafer
回蚀对硅片钛酸铅薄膜残余应力的影响
DOI: --
发表时间: 2004
期刊: Japanese Journal of Applied Physics Vol.43・No.9B
影响因子: --
作者: [T.Ohno, H.Suzuki, H.Masui, K.Ishikawa, M.Fujimoto]
通讯作者: M.Fujimoto
セラミックスの電磁気的・光学的性質IV 積層・薄膜インダクタ
陶瓷的电磁和光学特性 IV 多层/薄膜电感器
DOI: --
发表时间: 2004
期刊: セラミックス誌 39巻・8号
影响因子: --
作者: [M.Fujimoto, T.Ohno, H.Suzuki, H.Koyama, J.Tanaka, 藤本正之]
通讯作者: 藤本正之
DOI: 10.1111/j.1551-2916.2005.00583.x
发表时间: 2005-11-01
期刊: JOURNAL OF THE AMERICAN CERAMIC SOCIETY
影响因子: 3.9
作者: [Fujimoto, M, Ohno, T, Tanaka, J]
通讯作者: Tanaka, J
特異的準安定ナノ構造セラミックスの電子輸送特性に関する研究
  • 批准号:
    20360296
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $6.49万
  • 财政年份:
    2008
  • 负责人:
    藤本 正之
  • 依托单位:
海外基金