マイクロ波プラズマを用いたナノ細孔内グラフティング重合修飾

使用微波等离子体在纳米孔内进行接枝聚合改性

基本信息

  • 批准号:
    17656234
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.24万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 财政年份:
    2005
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2005 至 2006
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究では、表面波プラズマによりポリマーの表面改質を行い、親水性のポリマーを基材に導入した。Arプラズマ照射後、真空を維持したまま、アクリル酸を空気中で気化させることによりチャンバー内に導入した。基板には、HDPE、PET、PPを用いた。Arプラズマ照射後アクリル酸に暴露したHDPEおよびPETでは、水滴接触角の変化は見られず、親水性を維持していた。また、PPについても水滴接触角の変化が緩やかであった。これは、プラズマ処理後アクリル酸に暴露することにより、高分子表面にアクリル酸重合体からなる親水性長鎖が作製され、その結果として親水性を維持したためである。また、水滴接触角の変化は、空気に暴露した場合、アクリル酸に暴露した場合ともに、HDPEがもっとも大きく、PET、PPの順に変化が小さくなった。これは、HDPEが主鎖断裂型に属し、PETが主鎖断裂型と副鎖断裂型の両方、PPが副鎖断裂型に属するためである。XPS測定によって、Arプラズマ照射後、空気に暴露した基盤では、主に、286.6eVの位置に示されるC-Oに起因するピークが出現した。これは空気中の酸素と反応することにより、高分子表面に-OH基が付与されたことを示す。一方、アクリル酸に暴露した基板では、288.9eVの位置に示される-CO-0のピークが出現した。これは-COOH基を示すものであり、アクリル酸が付与されたことを意味する。これらの結果から、Arプラズマによるラジカル開始重合により、HDPE、PP、PETの3種の高分子基板上にアクリル酸重合体の長鎖を作製できることを明らかにした。
In this study, the surface wave, the surface wave, the surface modification, the surface modification and the substrate were studied in this study. After the Ar radiation, the vacuum maintains the temperature, and the temperature changes in the vacuum. The substrates, HDPE, PET, and PP are used for testing. After exposure to Ar, the contact angle of water droplets, the temperature of HDPE, the contact angle of water droplets and the contact angle of water droplets were exposed to acid and water respectively. The contact angle of the water droplets is different from that of the water droplets. The contact angle of the droplets is different. After the treatment, the acid exposure was used to determine the temperature, the surface of the polymer, the weight of the polymer, the water quality of the polymer, the water quality of the water, and the results showed that the water quality was maintained. The contact angle of water droplets, the contact The main fault type of HDPE, the main fault type of PET, the secondary fault type of PET, and the secondary fracture type of PP. After the exposure of XPS and Ar radiation, the position of the primary, primary and 286.6eV exposure shows that the cause has been detected. In the air, the acid reacts with the OH on the surface of the polymer and shows the difference between the two groups. On the one hand, the substrate is exposed by acid, and the position of the 288.9eV shows that the substrate is exposed. The position of the CO-0 plate shows that the substrate is not visible. The COOH base indicates that the money is not good enough, and that it means that the money is not good enough. The results of the experiment, the results of the Ar test, the beginning of the recombination of the polymer substrate, HDPE, PP, PET, and the high molecular weight of the polymer substrate were analyzed.

项目成果

期刊论文数量(8)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Role of carbon atoms in plasma-enhanced chemical vapor deposition for carbon nanotubes synthesis
碳原子在等离子体增强化学气相沉积碳纳米管合成中的作用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2006
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M.A.Bratescu;Y.Suda;Y.Sakai;N.Saito;O.Takai
  • 通讯作者:
    O.Takai
Behavior of Various Organosilicon Molecules in PECVD Processes for Hydrocarbon-doped Silicon Oxide Films
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y.S.Yun;T.Yoshida;N.Shimazu;Y.Inoue;N.Saito;O.Takai
  • 通讯作者:
    O.Takai
Treatment of Immobilized Collagen on Poly(Tetrafluoroethylene) Nanoporous Membrane with Plasma
聚四氟乙烯纳米孔膜上固定化胶原的等离子体处理
  • DOI:
  • 发表时间:
    2006
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M.A. Bratescu;N. Saito;O. Takai
  • 通讯作者:
    O. Takai
Plasma polymerization in continuous and pulsed modes for deposition amine rich films
连续和脉冲模式的等离子体聚合沉积富胺薄膜
自己組織化単分子膜の作製法とその利用
自组装单层膜的制备方法及其应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2006
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
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  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    斎藤 永宏;稗田 純子;C. Miron;高井 治
  • 通讯作者:
    高井 治
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    2007
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  • 通讯作者:
    大庭 誠,青柳 和宏,宮田 完二郎,西山 伸宏,小山 博之,片岡 一則

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