超臨界水による金属膜の透明化 -新しい光整合窓材料・創製プロセスへの展開-
超臨界水による金属膜の透明化 -新しい光整合窓材料・創製プロセスへの展開-
批准号:
18656185
负责人:
石黒 孝
金额:
$2.18万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2007
中文摘要
平成19年度は前年度に立ち上げた水熱反応装置に高圧ポンプを付加し循環系システムとし水熱反応を実施した。コーニング#7059ガラス基板上に高周波スパッタ法により成膜したアルミニュウム膜(200nm)を370Kで0.1MPaと25MPaで反応させたものを比較し、さらに25MPaで370Kから650Kの超臨界状態までの反応を比較した。高圧反応で408Kまでは1気圧の反応に比べ高い光学的透過率を示した。1気圧の反応でも基板自体の透過率を上回っていたが、高圧下の反応はさらに改善できることが明らかとなった。505K以上では膜が消失し超臨界状態ではガラス基板自体が犯されるほど活性であることがわかった。熱処理過程を調査するために本研究費により質量分析器を購入し、加熱炉を新たに作製し、これらを既存の真空排気装置に装着し、ガス分析装置を作製した。そして773Kまでの昇温実験を行い脱ガス過程を調査した。異なる温度で二段階で脱水反応が起こることが明らかとなった。水熱反応により生成された膜は多孔質のベーマイト(水酸化アルミニュウム)であることを確認した。真空中及び大気中にて773Kで熱処理を行った結果、真空中熱処理ではベーマイトが微細粒化もしくは非晶質化する傾向が見られたが、大気中熱処理では、δアルミナ、γアルミナ、不完全なγアルミナへ改質されることがはじめて明らかとなった。本研究により高温・高圧の水がアルミニュウムの水熱反応促進にとって有効な条件範囲が明らかとなった。また水酸化物の熱処理はその雰囲気に依存した反応が生ずることが明らかとなった。
英文摘要
平成19年度は前年度に立ち上げた水熱反応装置に高圧ポンプを付加し循環系システムとし水熱反応を実施した。コーニング#7059ガラス基板上に高周波スパッタ法により成膜したアルミニュウム膜(200nm)を370Kで0.1MPaと25MPaで反応させたものを比較し、さらに25MPaで370Kから650Kの超臨界状態までの反応を比較した。高圧反応で408Kまでは1気圧の反応に比べ高い光学的透過率を示した。1気圧の反応でも基板自体の透過率を上回っていたが、高圧下の反応はさらに改善できることが明らかとなった。505K以上では膜が消失し超臨界状態ではガラス基板自体が犯されるほど活性であることがわかった。熱処理過程を調査するために本研究費により質量分析器を購入し、加熱炉を新たに作製し、これらを既存の真空排気装置に装着し、ガス分析装置を作製した。そして773Kまでの昇温実験を行い脱ガス過程を調査した。異なる温度で二段階で脱水反応が起こることが明らかとなった。水熱反応により生成された膜は多孔質のベーマイト(水酸化アルミニュウム)であることを確認した。真空中及び大気中にて773Kで熱処理を行った結果、真空中熱処理ではベーマイトが微細粒化もしくは非晶質化する傾向が見られたが、大気中熱処理では、δアルミナ、γアルミナ、不完全なγアルミナへ改質されることがはじめて明らかとなった。本研究により高温・高圧の水がアルミニュウムの水熱反応促進にとって有効な条件範囲が明らかとなった。また水酸化物の熱処理はその雰囲気に依存した反応が生ずることが明らかとなった。
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
金属Al膜の水熱反応過程
金属Al薄膜的水热反应过程
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
--
作者:
[高畠大輔, 野口嘉史, 石黒 孝]
通讯作者:
石黒 孝
Transparency-Reforming of A1-N Film by Hydrothermal Reaction
水热反应对A1-N薄膜进行透明改性
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
Proc. ISES Solar World Congress 2007 3
影响因子:
--
作者:
[T. Ishiguro, D. Hattori and K. Hamasaki]
通讯作者:
D. Hattori and K. Hamasaki
高圧高温・水環境下におけるアルミニウム膜の透明化
高压、高温、水环境下铝膜的透明度
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
--
作者:
[大橋優一, 石黒 孝]
通讯作者:
石黒 孝
金属/絶縁体/金属積層膜中のパルス電界蒸発による金属量子細線・成長制御の研究
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批准号:05750593
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.7万
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财政年份:1993
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负责人:石黒 孝
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依托单位:
新しいX線回折・全方位極密度分布測定法による配向性遷移・薄膜成長様式の研究
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批准号:04750603
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1992
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负责人:石黒 孝
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依托单位:
新しい電顕画像処理システムによる二次元整合・不整合相変態の原子レベルでの機構解析
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批准号:03750523
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1991
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负责人:石黒 孝
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依托单位:
海外基金