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室温溶融塩中におけるチタンめっきの可能性

室温熔盐镀钛的可能性

基本信息

批准号：
20656123
负责人：
粟倉泰弘
金额：
$ 2.37万
依托单位：
Kyoto University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份：
2008
资助国家：
日本
起止时间：
2008 至无数据
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-20656123/
关键词：
イオン液体金属めっきチタン耐食性電気化学

项目摘要

本研究では、金属チタンのTMHA-Tf2Nイオン液体中におけるアノード溶解挙動と、EMIC-TiCl2浴におけるカソード分極挙動を調査した。その結果、アノード溶解挙動においては、アノード溶解前の機械的研磨、その後の浸漬電位ならびに、アノード溶解電位の関係が明らかとなった。具体的には、チタンがアノード溶解可能な最低の電位は、チタン板の機械的な研磨度により決まる。そのチタン板の研磨度、チタン板表面にどの程度酸化皮膜が存在しているかを示す値として浸漬電位を用いることができる。浸漬電位が-1.2 V (vs. I-/ I3-)を示す程度まで研磨したチタン板を用いると、電位+1.6 V以上で電解を行うことによってチタンのアノード溶解が可能である。このような電位は、イオン液体TMHA-Tf2Nの電位窓内に収まっており、また、アノード溶解後のチタンは、金属光沢のある"ぴかぴか"チタンであるため本技術をチタンの電解研磨技術として応用することが可能であると考えられる。EMIC-TiCl2からの電析については、TiCl2を添加したEMICにおいて白金板を用いて電位-1.8 Vで定電位電解を行うと、チタンを含む濃青色の膜が生成した。銅板もしくはニッケル板を用いた場合は、電解を行わなくても銅板やニッケル板自身が還元剤として働き、チタンを含む濃青色の膜が析出した。この膜は、空気に晒すと白色に変化し、白色の物質はアナターゼ型のTiO2であった。濃青色の膜は、チタンとEMI+とCl-を含む化合物と考えられる。

In this study, metal チタンのTMHA-Tf2N イオン liquid medium におけるアノードDissolution test, EMIC-TiCl2 bath test and polarization test test.そのresult, アノードDissolution 挙においては, アノードMechanical grinding before dissolution, The relationship between the immersion potential and the dissolution potential of the その后ならびに and the が明らかとなった. Specific には, チタンがアノード dissolution is possible, the lowest のpotential, and the チタン plate の mechanical grinding degree is determined. The grinding degree of the そのチタン plate, the degree of acidification of the surface of the チタン plate and the existence of the acid film The immersion potential is shown in the しているかを and the いることができる is used. The immersion potential is -1.2 V (vs. I-/I3-). The degree of the immersion is shown in the polishing method. The potential is +1.6 It is possible to dissolve the electrolytic solution above V.このようなpotential は, イオン liquid TMHA-Tf2N のpotential 窓内にReceived まっており, また, アノードのチタンは after dissolution, metal光沢のある"ぴかぴか"チタンであるため本技术をチタンのThe electrolytic grinding technology is the same as the use of electrolytic grinding technology. EMIC-TiCl2 electrolysis, TiCl2 addition, EMIC platinum plate use, potential -1.8 V is a constant-potential electrolytic solution, and a チタンをcontaining dark cyan film is generated. Copper plate is used for various occasions, and electrolytic copper plate is used for electrolysis. The ッケル board itself is a rejuvenated film, and the チタンをcontains a dark cyan film and is precipitated.このfilmは, 空気に日すと白に変化し, の物はアナターゼTYPEのTiO2であった. Dark cyan film, チタンとEMI+とCl-をcontaining compound と科えられる.