室温溶融塩中におけるチタンめっきの可能性

本研究では、金属チタンのTMHA-Tf2Nイオン液体中におけるアノード溶解挙動と、EMIC-TiCl2浴におけるカソード分極挙動を調査した。その結果、アノード溶解挙動においては、アノード溶解前の機械的研磨、その後の浸漬電位ならびに、アノード溶解電位の関係が明らかとなった。具体的には、チタンがアノード溶解可能な最低の電位は、チタン板の機械的な研磨度により決まる。そのチタン板の研磨度、チタン板表面にどの程度酸化皮膜が存在しているかを示す値として浸漬電位を用いることができる。浸漬電位が-1.2 V (vs. I-/ I3-)を示す程度まで研磨したチタン板を用いると、電位+1.6 V以上で電解を行うことによってチタンのアノード溶解が可能である。このような電位は、イオン液体TMHA-Tf2Nの電位窓内に収まっており、また、アノード溶解後のチタンは、金属光沢のある"ぴかぴか"チタンであるため本技術をチタンの電解研磨技術として応用することが可能であると考えられる。EMIC-TiCl2からの電析については、TiCl2を添加したEMICにおいて白金板を用いて電位-1.8 Vで定電位電解を行うと、チタンを含む濃青色の膜が生成した。銅板もしくはニッケル板を用いた場合は、電解を行わなくても銅板やニッケル板自身が還元剤として働き、チタンを含む濃青色の膜が析出した。この膜は、空気に晒すと白色に変化し、白色の物質はアナターゼ型のTiO2であった。濃青色の膜は、チタンとEMI+とCl-を含む化合物と考えられる。

本研究では、金属チタンのTMHA-Tf2Nイオン液体中におけるアノード溶解挙動と、EMIC-TiCl2浴におけるカソード分極挙動を調査した。その結果、アノード溶解挙動においては、アノード溶解前の機械的研磨、その後の浸漬電位ならびに、アノード溶解電位の関係が明らかとなった。具体的には、チタンがアノード溶解可能な最低の電位は、チタン板の機械的な研磨度により決まる。そのチタン板の研磨度、チタン板表面にどの程度酸化皮膜が存在しているかを示す値として浸漬電位を用いることができる。浸漬電位が-1.2 V (vs. I-/ I3-)を示す程度まで研磨したチタン板を用いると、電位+1.6 V以上で電解を行うことによってチタンのアノード溶解が可能である。このような電位は、イオン液体TMHA-Tf2Nの電位窓内に収まっており、また、アノード溶解後のチタンは、金属光沢のある"ぴかぴか"チタンであるため本技術をチタンの電解研磨技術として応用することが可能であると考えられる。EMIC-TiCl2からの電析については、TiCl2を添加したEMICにおいて白金板を用いて電位-1.8 Vで定電位電解を行うと、チタンを含む濃青色の膜が生成した。銅板もしくはニッケル板を用いた場合は、電解を行わなくても銅板やニッケル板自身が還元剤として働き、チタンを含む濃青色の膜が析出した。この膜は、空気に晒すと白色に変化し、白色の物質はアナターゼ型のTiO2であった。濃青色の膜は、チタンとEMI+とCl-を含む化合物と考えられる。