Fundamental Research on Light Triggered Switching Element of Oxide Superconductor for Power Apparatus
电力设备用氧化物超导体光触发开关元件的基础研究
基本信息
- 批准号:03452145
- 负责人:
- 金额:$ 4.29万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
- 财政年份:1991
- 资助国家:日本
- 起止时间:1991 至 1993
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
1. It is confirmed in oxide superconductor that light irradiation promotes the transition form superconducting state to normal state. Spectroscopic study revealed that uv component is more effective for S-N transition. Light absorption coefficient of specimen is almost constant through the examined range of wave length, therefore thermal mechanism is considered not to be involved.2. The deviation of voltage measured in V-I characteristics becomes significantly large under light irradiation. Light irradiation is considered to cause temperature rise of about 0.5 K from computer simulation. However temperature rise alone, which is realized by pressurizing of liquid nitrogen under dark condition, does not increase the deviation of voltage. It suggests that electronic mechanism is dominant.3. The increase in current causes the increase in voltage under light irradiation, but does not change time response for light pulse. The increase in light intensity causes the increase in voltage and hastens time response. Additionally it is clarified that voltage increase by light irradiation depends on the position of irradiation.4. YBCO thin film shows larger and quicker response than Bi bulk specimen. Response time of 10 mus delay was obtained for 50 mus wide light pulse.5. Voltage increase by light irradiation is not affected by magnetic field up to 500 gauss, unless voltage under dark condition is the same. However the deviation of voltage under light irradiation decreases with magnetic field.
1.证实了在氧化物超导体中,光辐照促进了超导态向正常态的转变。光谱研究表明,紫外组分对S-N跃迁的影响更大。在所检测的波长范围内,样品的光吸收系数几乎不变,因此认为不涉及热机制。在光照射下,V-I特性测量的电压偏差变得很大。由计算机模拟可知,光照射可引起约0.5K的温升。但是,在黑暗条件下通过液氮加压实现的单独温升并不会增加电压偏差。这说明电子机制占主导地位。电流的增加导致光照射下电压的增加,但不改变光脉冲的时间响应。光强的增加会导致电压的增加和时间响应的加快。此外,还阐明了光照射引起的电压升高与照射的位置有关。YBCO薄膜比Bi体样品具有更大、更快的响应速度。对于50微秒宽的光脉冲,获得了10微秒的延迟响应时间。500高斯以下的磁场不影响光照射引起的电压升高,除非暗条件下的电压相同。但是,光照射下的电压偏差随着磁场的增加而减小。
项目成果
期刊论文数量(40)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
道下 和男: "Bi系超電導試料のIc測定における電流スイープ速度の影響" 第48回 低温工学・超電導学会講演概要集. 11- (1992)
Kazuo Michishita:“电流扫描速度对 Bi 基超导样品 Ic 测量的影响”第 48 届低温工程和超导学会会议摘要 11-(1992 年)。
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- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
N.SHIMIZU: "Light Triggered SーN Transition in Oxide Superconductor" 3rd International Toki Conference. 16 (1991)
N.SHIMIZU:“氧化物超导体中的光触发 SーN 转变”第 3 届国际 Toki 会议(1991 年)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
橋本 幸吉: "酸化物超電導体ー常電導金属接合部における温度解析" 第48回低温工学・超電導学会講演概要集. 321- (1992)
Kokichi Hashimoto:“氧化物超导体-常导金属结的温度分析”第 48 届低温工程和超导学会会议摘要 321-(1992 年)。
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- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
山田昭治: "Bi系超電導体のレーザーパルス光応答に与える不均質性の影響" 平成6年電気学会全国大会. (1994)
Shoji Yamada:“异质性对 Bi 基超导体激光脉冲光响应的影响”1994 年日本电气工程师学会全国会议(1994 年)。
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- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
清水 教之: "BSCCOのV-I特性における光照射効果とバラツキ" 第47回低温工学・超電導学会講演概要集. 80- (1992)
Noriyuki Shimizu:“BSCCO 的 V-I 特性的光照射效应和变化”第 47 届低温工程与超导学会会议摘要 80-(1992 年)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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- 批准号:
20K16859 - 财政年份:2020
- 资助金额:
$ 4.29万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists