高速可変な発色メモリーを示す高機能固体ディスプレイ用素子膜の作製

用于具有高速可变颜色记忆的高性能固态显示器的元件薄膜的制造

• 批准号: 04453075
• 负责人: 土谷 敏雄
• 金额: $ 2.62万
• 依托单位: Tokyo University of Science
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
• 财政年份: 1992
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1992 至 1993
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-04453075/
• 关键词: ゾル・ゲルプロセス; ITO薄膜; WO_3薄膜; 固体電解質; エレクトロクロミズム; エレクトロクロミックディスプレイ; エレクトロクロミックディスプレー; ゾル・ゲル法; ITO膜; WO_3膜; 電解質溶液; 着色・消色

1.高導電性ITO薄膜の作製 原料としてInCl_3をアセチルアセトンに溶解させ,60℃で環流を行いSnCl_4のエタノール溶液を必要量取り室温で混合することにより出発溶液を得た。この場合,イソプロパノールの少量添加によりケト型と呼ばれるC=Oの二重結合から、エノール型の環状構造を持つキレートが形成していた。この溶液に石英基板をディップしてコーティングし,600℃の熱処理により薄膜を得た。抵抗率は,12mol%Snドープ量の場合,1.2×10^<-3>OMEGA・cmの良好な値が得られた。2.酸化タングステン薄膜 乾燥窒素雰囲気中で六塩化タングステンをエチルアルコールに溶解させ,これにナトリウムメチラートを加え,塩化ナトリウムを沈殿させた上澄み液を出発溶液とした。この溶液に前処理を行なった石英基板上に作製したITO膜上にデイップコーティングを行ない,300℃の低温で熱処理することにより非晶質の良好なWO_3薄膜を得た。3.固体電解質 過塩素酸ナトリウムを脱水した炭酸プロピレンに溶解させたものを用いた。4.エレクトロクロミック特性 上記のように作製した透明電極としてのITO膜とITO膜上に作製したWO_3膜及び固体電解質のセルを組み合せ,電極間距離を2mmとして電圧印加による着色変化及び透過率の測定を行った。その結果,エレクトロクロミズム現象を可逆的に行なわせることができる印加電圧は,6Vであり印加後5秒で着色が飽和し約70%の透過率を示した。以上から、1)ゾル・ゲル法により,原料としてInCl_3,SnCl_4を使用し,溶媒にアセチルアセトンを用いることによりITO薄膜の作製に成功した。2)大気中での熱処理(700℃,1hr)で得られた薄膜の抵抗率は,室温で1.2×10^<-3>OMEGA・cmの良好な値を示した。3)WO_3薄膜の着色による透過率変化は,印加電圧と印加時間で変化し,可逆変化が可能であり,6V,5秒で70%の透過率を示し,充分応用化が可能と考えられた。

1. High conductivity ITO film raw materials: InCl_3 solution, 60 ℃ ocean current, SnCl_4 solution, necessary amount, room temperature, mixing solution, etc. In this case, a small amount of addition to the so-called "C = O" type, a double combination of "C=O" type, and a ring structure of "C=O" type are formed The solution of quartz substrate is heat treated at 600 ℃ to obtain thin film. When the resistivity is 12mol%Sn, 1.2 ×10^<-3>OMEGA·cm is a good value. 2. Acidification of the film drying agent in the process of dissolution of the six chemical agents, such as the addition of the chemical agent, the removal of the chemical agent into the solution. The solution pretreatment was performed on the ITO film on the quartz substrate, and the amorphous WO_3 film was obtained by heat treatment at 300 ℃. 3. The solid electrolyte peracetic acid is used for dehydration and dissolution of carbonic acid. 4. The composition of transparent electrode and ITO film and solid electrolyte was recorded on the surface of ITO film. The distance between electrodes was 2mm, and the coloring and transmittance of ITO film were measured. As a result, the phenomenon of "color saturation" is reversible, and the transmittance is about 70% after 5 seconds of coloring at 6V. The ITO thin films were successfully prepared by using InCl_3, SnCl_4 as raw materials and solvent. 2)Heat treatment at high temperature (700℃,1hr) resulted in a good resistivity of 1.2×10^<-3>OMEGA·cm at room temperature. 3) The transmittance of WO_3 thin film is changed, and the voltage is changed, and the reversible change is possible. The transmittance of WO_3 thin film is 70% in 6V and 5 seconds.

项目成果

西尾圭史,清忠師、土屋敏雄: "Preparation of ITO Thin Films from Sol‐Gel Process" J.Ceram.Soc.Japan. (発表予定). (1994)

Keishi Nishio、Rev. Kiyotada、Toshio Tsuchiya：“通过溶胶凝胶工艺制备 ITO 薄膜”J.Ceram.Soc.Japan（即将发表）。

西尾圭史,清忠師、土屋敏雄: "Preparation of Electrochromic Display from Sol‐Gel Process" Thin Solids Films. (発表予定). (1994)

Keishi Nishio、Rev. Kiyotada、Toshio Tsuchiya：“利用溶胶凝胶工艺制备电致变色显示器”固体薄膜（即将发表）。