制备条件和热处理对金属薄膜超导临界温度影响的研究-猫眼课题宝

制备条件和热处理对金属薄膜超导临界温度影响的研究

批准号：

58460207

负责人：

前田正雄

金额：

$3.14万

依托单位：

Hokkaido University

依托单位国家：

日本

项目类别：

Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)

财政年份：

1983

资助国家：

日本

项目状态：

已结题

起止时间：

1983 至 1984

来源：

https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-58460207/

关键词：

中文摘要

翻译

点击翻译按钮获取中文摘要

英文摘要

期刊论文(0)

专著(0)

科研奖励(0)

会议论文

陽極反応Si多孔質層の生成メカニズムに関する基礎的研究とICプロセスへの応用

批准号：

X00090----355002
项目类别：

Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
资助金额：

$1.41万
财政年份：

1978
负责人：

前田正雄
依托单位：

Hokkaido University

示差熱分析法による強磁性薄膜の物性に関する研究

批准号：

X00090----055011
项目类别：

Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
资助金额：

$1.09万
财政年份：

1975
负责人：

前田正雄
依托单位：

Hokkaido University