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スパッタ・イオン研磨過程のUHV電顕法による研究

スパッタ・イオン研磨過程のUHV電顕法による研究
利用特高压电子显微镜研究溅射和离子抛光工艺
批准号：
X00080----346106
负责人：
本庄 五郎
金额：
$3.9万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
财政年份：
1978
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1978 至 1979
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-X00080----346106/
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UHV電顕内蒸着用 E-gun およびスパッタ ion-gun の試作と応用
  • 批准号：
    X00120----285003
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
  • 资助金额：
    $2.62万
  • 财政年份：
    1977
  • 负责人：
    本庄 五郎
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
10^<-9>torr超高真空電子顕微鏡技術の開発
  • 批准号：
    X00120----985003
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
  • 资助金额：
    $2.14万
  • 财政年份：
    1974
  • 负责人：
    本庄 五郎
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
電子顕微鏡試料電場印加による強誘電体相転移と分極反転機構の研究
  • 批准号：
    X00080----946044
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
  • 资助金额：
    $2.43万
  • 财政年份：
    1974
  • 负责人：
    本庄 五郎
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
清浄真空中蒸着による薄膜結晶成長機構の研究
  • 批准号：
    X00040----910804
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Special Project Research
  • 资助金额：
    $5.02万
  • 财政年份：
    1974
  • 负责人：
    本庄 五郎
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology