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金属シリサイド/シリコン接合のショットキー障壁高さに関する研究

金属シリサイド/シリコン接合のショットキー障壁高さに関する研究
金属硅化物/硅结肖特基势垒高度研究
批准号：
X00080----546056
负责人：
大泊 巌
金额：
$5.82万
依托单位：
Waseda University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
财政年份：
1980
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1980 至 1982
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-X00080----546056/
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イオン照射を用いたシリコンナノ構造形成における素過程の動的観察
  • 批准号：
    05F05551
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $0.77万
  • 财政年份：
    2005
  • 负责人：
    大泊 巌
  • 依托单位：
    Waseda University
シリコンナノ構造配列への選択的分子固定技術の開発とマイクロシステムへの応用
  • 批准号：
    04F04659
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $0.77万
  • 财政年份：
    2004
  • 负责人：
    大泊 巌
  • 依托单位：
    Waseda University
ナノパターン表面への生体分子の固定化とバイオチップへの応用
  • 批准号：
    02F00667
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $0.83万
  • 财政年份：
    2002
  • 负责人：
    大泊 巌
  • 依托单位：
    Waseda University
ナノパターン表面への生体分子の固定化とバイオチップへの応用
  • 批准号：
    02F02667
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $0.26万
  • 财政年份：
    2002
  • 负责人：
    大泊 巌
  • 依托单位：
    Waseda University