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金属シリサイド/シリコン接合のショットキー障壁高さに関する研究
金属硅化物/硅结肖特基势垒高度研究
基本信息
- 批准号：X00080----546056
- 负责人：
- 金额：$ 5.82万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
- 财政年份：1980
- 资助国家：日本
- 起止时间：1980 至 1982
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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