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複合酸化物薄膜の電気化学的エピタキシャル成長

复合氧化物薄膜的电化学外延生长

基本信息

批准号：
03805069
负责人：
松本泰道
金额：
$ 1.02万
依托单位：
Kumamoto University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1991
资助国家：
日本
起止时间：
1991 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

複合酸化物の一つであるLaMnO_3ペロブスカイトを白金電極上に作製する場合,これが陽分極のもとで生成するときのインピ-ダンスの変化を測定した。この結果Le含有量が増加すると膜の抵抗が大幅に増大することが明らかとなった。電解生成膜は非晶質であるが,この増大はLaがMnO_2膜に化学的に取り込まれていることを示している。同様の減少はLaCoO_3ペロブスカイト膜生成時にも観測されている。単結晶電極上へのエピタキシャル成長なルチル(TiO_2)電極上へのβーPbO_2電解析出についても見られたが,150℃以上の高い温度が必要とされた。この析出においてはβーPbO_2の格子定数がTiO_2のそれに近づくように変化することが確認され,このような現象は溶液中でははじめての発見である。この電極上にSnO_2のエピタキシャル成長も試みた。SnO_2は高温よりむしろ室温においてエピタキシャル成長しており,この結果,TiO_2(半導体)/βーPbO_2(金属)/SnO_2(半導体)の超格子ができる可能性があり,さらにβーPbO_2において量子井戸の形成が考えられる。そこではじめにTiO_2上にβーPbO_2をエピタキシャル成長させ,その後SnO_2を室温で析出した。これらの膜厚は200Å程度とした。このようにして作製したTiO_2/SnO_2膜に光照射し,そのスペスペクトル特性を求めた。このようにして作製した膜では約leVに光電流が観測され,これは形成した量子井戸によると考えられたが,現在では,これをさらに確認するため再現性,光導電性のスペクトル特性を測定している。このように電気化学的エピタキシャル成長,さらにこれを発展させた超格子膜の作製は本研究の優れた成果によるものと考えられる。

Composite acid compound LaMnO_3 ペロブスカイトをmade on platinum electrode In this case, the これが Yang polarization のもとで generates the するときのインピ-ダンスの変化をmeasurement した. As a result, the Le content has increased significantly and the resistance of the film has increased significantly. The electrolysis-generated film is an amorphous film, and the chemical film is a large LaMnO_2 film. The reduction of the same LaCoO_3 ペロブスカイト film was measured when the film was generated.へのエピタキシャルなルチル (TiO_2) electrode on a single crystal electrode へのβーPb The electrolysis of O_2 is necessary for high temperatures above 150℃.このPrecipitationにおいてはβーPbO_2のlattice fixed numberがTiO_2のそれにNearlyづくように変化することがConfirmationされ,このようなphenomenonはでははじめての発见である in the solution. The growth of SnO_2 on the electrode was tested. SnO_2 is grown at high temperature and at room temperature, and TiO_2 (semiconductor)/βーPbO_2 ( Metal)/SnO_2 (semiconductor) のSuperlattice ができる possibility があり, さらにβーPbO_2 においてQuantum well 戸の formation が考えられる. The growth of PbO_2 on TiO_2 and the growth of キシャル are done, and SnO_2 is precipitated at room temperature. The thickness of the film is around 200Å.このようにしてしたTiO_2/SnO_2 film is irradiated with light, and the そのスペスペクトルcharacteristics are required.このようにしてProduction of filmではAbout leVにPhotocurrentが観measurementされ,これはFormationしたQuantum wellによるとtestえられたが, now では, これをさらにconfirmation するためreproducibility, photoconductivity のスペクトルcharacteristics をmeasurement している. The growth of このように电気CHEM’s エピタキシャル, the development of さらにこれを発発The results of this research are based on the production of superlattice membranes.