LEED(低速電子線回折)及びAuger電子分光装置を使ってのエピタキシャル成長の研究
LEED(低速電子線回折)及びAuger電子分光装置を使ってのエピタキシャル成長の研究
批准号:
X00095----865002
负责人:
徳高 平蔵
金额:
$0.3万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (D)
财政年份:
1973
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1973 至 --
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高温超伝導Bi系バルク単結晶を用いたSーNーS及びSーIーS構造デバイスの作製
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批准号:03210222
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$2.05万
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财政年份:1991
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负责人:徳高 平蔵
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依托单位:
高温超伝導80K相Bi系単結晶基板を用いたSーNーS構造デバイスの作製とその評価
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批准号:02226222
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$2.24万
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财政年份:1990
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负责人:徳高 平蔵
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依托单位:
MBE高温超伝導薄膜の超伝導特性と各種表面分析法によるその場測定
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批准号:01644522
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1989
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负责人:徳高 平蔵
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依托单位:
磁場偏向型LEED装置による原子層薄膜の位相制御エピタキシー
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批准号:63609513
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1988
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负责人:徳高 平蔵
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依托单位:
磁場型LEED装置を使ったGeSi化合物/SiC超格子層の位相制御エピタキシー
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批准号:62609523
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.66万
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财政年份:1987
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负责人:徳高 平蔵
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依托单位:
シリサイドを形成する二元合金表面と界面組成のAES法による新しい定量化
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批准号:57550014
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1982
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负责人:徳高 平蔵
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依托单位:
低温下における薄膜成長機構および単結晶真空劈開面の研究
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批准号:X00090----255008
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.47万
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财政年份:1977
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负责人:徳高 平蔵
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依托单位:
低温(液体窒素温度付近)での薄膜成長機構の探究
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批准号:X00095----165004
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (D)
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资助金额:$0.29万
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财政年份:1976
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负责人:徳高 平蔵
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依托单位: