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Modeling and suppression of the striation formation arising during spincoating of photoresist films

Modeling and suppression of the striation formation arising during spincoating of photoresist films
光致抗蚀剂薄膜旋涂过程中出现的条纹形成的建模和抑制
批准号:
17H07158
负责人:
Shiratori Suguru
金额:
$1.91万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
财政年份:
2017
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2017-08-25 至 2019-03-31

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薄液膜の塗布時に発生する放射状スジムラの形成機構
液膜涂覆过程中径向条纹的形成机制
DOI: --
发表时间: 2017
期刊:
影响因子: --
作者: [林和眞, 塩地彩加, 白鳥 英,永野 秀明,島野 健仁郎]
通讯作者: 白鳥 英,永野 秀明,島野 健仁郎
回転基板上の液膜流れにおけるマランゴニ数の過渡変化
旋转基底上液膜流中马兰戈尼数的瞬态变化
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [Suguru Shiratori, Hideaki Nagano and Kenjiro Shimano, 佐野竜平, 白鳥 英,永野 秀明,島野 健仁郎]
通讯作者: 白鳥 英,永野 秀明,島野 健仁郎
遠心力場での液膜流れに関する線形安定性解析
离心力场中液膜流动的线性稳定性分析
DOI: --
发表时间: 2017
期刊: ながれ
影响因子: --
作者: [榎波晨悟, 斎藤健太, 阿部圭佐, 塩本公平, Kohei Shiomoto, 舘葉月, Hazuki Tate, 佐野竜平, Hwajin lim, Hazuki Tate, 白鳥 英,島野 健仁郎,永野 秀明]
通讯作者: 白鳥 英,島野 健仁郎,永野 秀明
Linear stability analysis on liquid film flow on the rotating disc
转盘上液膜流动的线性稳定性分析
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [Suguru Shiratori, Hideaki Nagano and Kenjiro Shimano]
通讯作者: Hideaki Nagano and Kenjiro Shimano
Prediction of thickness undulations in coating of liquid films by means of physics-informed machine learning
  • 批准号:
    19K04175
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $2.83万
  • 财政年份:
    2019
  • 负责人:
    Shiratori Suguru
  • 依托单位:
海外基金